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华海清科(688120)股票综合信息查询

 
沪深个股板块DDE历史数据查询:    
 
◆最新指标 (2024年一季报)◆
每股收益(元)        :1.2700
目前流通(万股)     :11304.29
每股净资产(元)      :36.1428
总 股 本(万股)     :15893.34
每股公积金(元)      :24.5970
营业收入(万元)     :68024.89
每股未分配利润(元)  :9.6103
营收同比(%)        :10.40
每股经营现金流(元)  :1.0564i
净利润(万元)       :20214.58
净利率(%)           :29.72
净利润同比(%)      :4.27
毛利率(%)           :47.92
净资产收益率(%)    :3.59
◆上期主要指标◆◇2023末期◇
每股收益(元)        :4.5500
扣非每股收益(元)  :3.8263
每股净资产(元)      :34.7173
扣非净利润(万元)  :60812.11
每股公积金(元)      :24.4386
营收同比(%)       :52.11
每股未分配利润(元)  :8.3384
净利润同比(%)     :44.29
每股经营现金流(元)  :4.1082
净资产收益率(%)   :14.11
毛利率(%)           :46.02
净利率(%)         :28.86
◆ 公司概要 ◆

证监会行业:

行业:

制造业->专用设备制造业

专用设备

入选理由:公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备供应商,主要产品包括CMP设备、减薄设备、供液系统、晶圆再生、关键耗材与维保服务等。公司自成立以来始终坚持自主创新的发展路线,在纳米级抛光、纳米精度膜厚在线检测、纳米颗粒超洁净清洗、大数据分析及智能化控制等关键技术层面取得了有效突破和系统布局,开发出了Universal系列CMP设备、Versatile系列减薄设备、HSDS/HCDS系列供液系统、膜厚测量设备,以及晶圆再生、关键耗材与维保服务等技术服务,初步实现了“装备+服务”的平台化战略布局。公司主要产品及服务已广泛应用于集成电路、先进封装、大硅片、第三代半导体、MEMS、MicroLED等制造工艺。

所属
地域:

主营业务:
题材概念: 增持回购
入选理由:公司公告股东有增持或者回购行为
融资融券
入选理由:公司是融资融券标的个股
国资改革
入选理由:2022年6月24日,四川省国资委出具同意以清华控股100%股权对四川能投增资批复,同意将清华控股100%股权注入四川能投,四川能投相应增加注册资本金并最终持有清华控股100%股权。2022年6月28日,清华控股100%股权划入四川省国资委的工商变更登记手续办理完毕,同时清华控股名称变更为天府清源;2022年7月1日,天府清源100%股权过户至四川能投的工商变更登记手续办理完毕,本次工商变更完成后,天府清源的股东变更为四川能投。上述工商变更完成后,公司控股股东未发生变化,公司实际控制人变更为四川省国资委。
集成电路
入选理由:公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备供应商,主要产品包括CMP设备、减薄设备、供液系统、晶圆再生、关键耗材与维保服务等。公司自成立以来始终坚持自主创新的发展路线,在纳米级抛光、纳米精度膜厚在线检测、纳米颗粒超洁净清洗、大数据分析及智能化控制等关键技术层面取得了有效突破和系统布局,开发出了Universal系列CMP设备、Versatile系列减薄设备、HSDS/HCDS系列供液系统、膜厚测量设备,以及晶圆再生、关键耗材与维保服务等技术服务,初步实现了“装备+服务”的平台化战略布局。公司主要产品及服务已广泛应用于集成电路、先进封装、大硅片、第三代半导体、MEMS、MicroLED等制造工艺。
半导体
入选理由:公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备供应商,主要产品包括CMP设备、减薄设备、供液系统、晶圆再生、关键耗材与维保服务等。公司自成立以来始终坚持自主创新的发展路线,在纳米级抛光、纳米精度膜厚在线检测、纳米颗粒超洁净清洗、大数据分析及智能化控制等关键技术层面取得了有效突破和系统布局,开发出了Universal系列CMP设备、Versatile系列减薄设备、HSDS/HCDS系列供液系统、膜厚测量设备,以及晶圆再生、关键耗材与维保服务等技术服务,初步实现了“装备+服务”的平台化战略布局。公司主要产品及服务已广泛应用于集成电路、先进封装、大硅片、第三代半导体、MEMS、MicroLED等制造工艺。
中芯国际概念 半导体设备
入选理由:公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备供应商,主要产品包括CMP设备、减薄设备、供液系统、晶圆再生、关键耗材与维保服务等。公司自成立以来始终坚持自主创新的发展路线,在纳米级抛光、纳米精度膜厚在线检测、纳米颗粒超洁净清洗、大数据分析及智能化控制等关键技术层面取得了有效突破和系统布局,开发出了Universal系列CMP设备、Versatile系列减薄设备、HSDS/HCDS系列供液系统、膜厚测量设备,以及晶圆再生、关键耗材与维保服务等技术服务,初步实现了“装备+服务”的平台化战略布局。公司主要产品及服务已广泛应用于集成电路、先进封装、大硅片、第三代半导体、MEMS、MicroLED等制造工艺。
风格概念: 中盘
入选理由:以总市值为参考标准,公司满足市值介于大盘股与小盘股之间
百元股
入选理由:公司当前股价超过了100元
高派息
入选理由:公司近期的分配预案和已经实施的分配中,每10股派息大于5元
◆控盘情况◆
 
2024-03-31
2023-12-31
2023-09-30
2023-06-30
股东人数    (户)
7889
7893
8644
8138
人均持流通股(股)
14329.2
14321.9
13171.3
13990.2
人均持流通股
(去十大流通股东)
8037.7
8089.8
7524.4
7827.9
点评:
2024年一季报披露,前十大股东持有9267.55万股,较上期减少10.17万股,占总股本比58.29%,主力控盘强度较高。
截止2024年一季报合计103家机构,持有5442.63万股,占流通股比47.80%;其中99家公募基金,合计持有3350.71万股,占流通股比29.43%。
股东户数7889户,上期为7893户,变动幅度为-0.0507%
由于不同基金 、上市公司报表公布时间各有不同,在基金、上市公司报表披露期间,数据会有所变动。基金在一、三季报不披露全部持仓,因此中报/年报统计更为准确。
◆概念题材◆

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【高端半导体设备供应商】公司是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备供应商,主要产品包括CMP设备、减薄设备、供液系统、晶圆再生、关键耗材与维保服务等。公司自成立以来始终坚持自主创新的发展路线,在纳米级抛光、纳米精度膜厚在线检测、纳米颗粒超洁净清洗、大数据分析及智能化控制等关键技术层面取得了有效突破和系统布局,开发出了Universal系列CMP设备、Versatile系列减薄设备、HSDS/HCDS系列供液系统、膜厚测量设备,以及晶圆再生、关键耗材与维保服务等技术服务,初步实现了“装备+服务”的平台化战略布局。公司主要产品及服务已广泛应用于集成电路、先进封装、大硅片、第三代半导体、MEMS、MicroLED等制造工艺。
更新时间:2024-02-01 08:51:09
【董事长提议5000万-1亿元回购股份】2024年2月,公司董事长路新春先生提议公司以自有资金通过上海证券交易所交易系统以集中竞价交易方式回购公司已发行的部分人民币普通股(A股)股票,在未来适宜时机将前述回购股票用于股权激励或员工持股计划,或用于转换上市公司发行的可转换为股票的公司债券。回购资金总额不低于人民币5,000万元(含),不超过人民币10,000万元(含);回购价格不高于公司董事会审议通过回购股份方案前30个交易日公司股票交易均价的150%;回购期限:自公司股东大会审议通过本次回购股份方案之日起12个月。
更新时间:2024-02-01 08:51:06
【12英寸单片终端清洗机出货】2023年9月,公司首台12英寸单片终端清洗机HSC-F3400机台出机发往国内大硅片龙头企业。HSC-F3400机型是公司面向大硅片终端清洗市场特殊需求研发的一款高性能设备,该机型配备了新型清洗模块、干燥模块及颗粒与金属污染控制系统,可稳定实现大硅片正面及背面的高效率超洁净清洗。机台搭载的高性能卡盘夹持技术,确保晶圆稳定高速运转,在产能优势明显的同时,具备安全性高、工艺调整灵活、可靠性强的特点,能够以较高使用寿命满足低成本运维需求。HSC-F3400机型作为公司自主研发的终端清洗设备,是公司继CMP设备、减薄设备之后,在湿法设备系列产品中推出的又一项重要成果,对公司未来的发展将产生积极的影响。
更新时间:2023-09-27 08:18:07
【拓展大硅片、化合物半导体等市场】公司积极开拓先进封装、大硅片、化合物半导体等市场,用于先进封装、大硅片领域的CMP设备已批量交付客户大生产线;面向化合物半导体推出的CMP设备已在SiC、GaN、LN、LT等领域实现市场应用,取得批量销售订单;公司进一步开发了兼容6/8英寸、抛光+清洗全自动控制的CMP设备,提升了第三代半导体衬底的抛光工艺水平、自动化程度和生产效率,同时大幅减少了耗材用量,已在头部客户通过验证。
更新时间:2023-06-19 09:52:37
【CMP设备】公司高度重视CMP产品的技术和性能升级,推出了满足更多材质工艺和更先进制程要求的新功能、新模块和新产品,持续推进面向更高性能、更先进节点的CMP设备开发及工艺突破。公司在智能工艺控制系统(SAPC)功能方面也取得了较大突破,通过机器学习算法更好地预测和调控CMP工艺的实时动态去除率、偏差值等,进一步提高了耗材全生命周期内的抛光均匀性和工艺适应性。公司CMP设备在逻辑芯片、DRAM存储芯片、3DNAND存储芯片等领域的成熟制程均完成了90%以上CMP工艺类型和工艺数量的覆盖度,部分关键CMP工艺类型成为工艺基准(Baseline)机台。公司CMP设备在以上领域客户端生产线均表现突出,长期连续运行的技术指标和可靠性指标达到国际同类设备水平,取得了更多客户的批量订单,持续保持前道晶圆制造国产CMP装备市场领先地位。
更新时间:2023-06-19 09:52:31
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