入选理由:公司致力于为下游晶圆制造企业提供一站式CMP核心材料与整体解决方案,已成为国内首家、亦是唯一一家覆盖集成电路CMP全品类材料的综合解决方案供应商。在CMP抛光垫产品方面,公司目前是国内唯一一家全面掌握CMP抛光垫全流程核心研发技术和生产工艺的CMP抛光垫供应商,确立CMP抛光垫国产供应龙头地位,产品深度渗透国内主流晶圆厂客户,成为部分客户的第一供应商。在CMP抛光液产品方面,公司开展全制程及多品类CMP抛光液产品布局,部分品类进入快速放量阶段。在清洗液产品方面,公司铜制程CMP后清洗液持续稳定获得订单,其他制程抛光后清洗液产品结合整体业务战略安排进行开发验证,持续完善业务布局。2026年5月7日公司公告,控股子公司—武汉鼎泽新材料技术有限公司,近期在半导体CMP抛光液领域接连取得三项重大进展,分别在大硅片精抛液、氧化铈抛光液、先进封装用TSV抛光液领域实现产品突破并获得客户订单。