异动解析南大光电 涨跌幅15.21%,分析或为:三氟化氮+光刻胶+专精特新
板块异动原因:
半导体产业链;IDC数据显示,随着智能手机需求的逐步复苏和人工智能芯片需求的旺盛,预计2024年全球半导体销售市场将重回增长趋势,年增长率将达20%。
个股异动解析:
三氟化氮+光刻胶+专精特新
1、2023年12月9日公告,公司拟6亿元投建年产8400吨高纯电子级三氟化氮生产项目。
2、2024年1月26日消息,南大光电申请二茂铁纯化装置专利,可高效提纯,降低纯化成本,1月10日公司申请高纯度La(iPrCp)3专利。
3、公司ArF光刻胶先后通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,目前已完成两条光刻胶生产线的建设,光刻胶年产能将达25吨(干式5吨和浸没式20吨)。
4、公司作为牵头单位,承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收。
5、公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售,是MO源产业化生产的企业,也是全球主要的MO源生产商;公司主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、高K三甲基铝、硅前驱体和OLED材料。
来源:韭研公社APP