ALD 技术领军企业，聚焦光伏与半导体

    　　公司专注于ALD 技术，引领国内ALD 技术的发展应用。公司为国内首家将ALD 技术规模化应用于光伏领域，也是国内首家成功将量产型High-k 原子层沉积设备应用于28nm 节点集成电路制造前道生产线的设备公司，并不断在泛半导体领域拓展产品应用外延。

    　　2021 年度和2022 年前三季度公司营收分别为4.28 亿元、3.85 亿元，归母净利润分别为4,611.37 万元、-325.47 万元，截至2022 年9 月末，公司已取得在手订单19.75 亿元。公司前期研发投入高，新产品开拓初期的毛利率有一定影响，规模效应有望带来利润加速回升。

    　　光伏：立足ALD，新型电池技术全面布局

    　　PERC：公司量产设备镀膜速率突破10,000 片/小时，打破制约ALD技术应用于光伏领域的产能限制。2018 年、2019 年公司PERC 电池背钝化设备装机容量市占率分别为41.16%、48.41%。

    　　TOPCon：（1）ALD 设备在TOPCon 电池正面氧化铝工艺中，可沉积超薄的、高深宽比的膜层，更适应正面镀钝化膜的复杂形貌，首先取得较高市占率。（2）公司开发的PEALD 二合一平台，集成了PEALD 和PECVD 两种工艺，分别用于制备隧穿层和多晶硅层，有望受益于TOPCon 路线持续扩产。

    　　IBC：由于平台化技术特征，IBC 可以和HJT、TOPCon 技术结合，电池制备工艺更为多变。其中，ALD 设备在钝化层的制备中具有重要地位，且需求量往往更高。

    　　HJT：公司PECVD 技术可以应用于本征非晶硅层沉积，ALD 设备也储备用于TCO 层沉积。

    　　钙钛矿：ALD 具有衬底温度较低、可精确控制膜厚、大面积生长、薄膜均匀性好、三维保形性好等特点，在TCO等功能层、缓冲层和封装中都具备广泛的应用条件。公司根据下游客户需求进行相应储备。

    　　半导体：ALD 技术中的国产替代先行者

    　　随着我国半导体设备市场需求量增长及国产化率提升，国产ALD设备市场空间不打断开， 带来领先ALD 设备公司机会。我们预计2022/2023/2024 我国国产ALD 设备规模分别为5.21/6.26/9.59 亿元，yoy+37.42%/20.15%/53.38%。

    　　公司ALD技术在泛半导体的各细分领域深度拓展。在逻辑芯片领域，公司为国产首家突破28nm 制程 High-k 材料沉积技术；在存储芯片领域，公司ALD 技术可以用于3D NAND、铁电存储 （FeRAM）等先进存储技术领域；在新型显示领域，公司的ALD 设备布局OLED/mini LED 等领域，不断拓宽应用外延。

    　　盈利预测、估值及投资评级

    　　我们预测公司2022-2024 年营业收入分别为6.02/16.68/22.15 亿元，归母净利润分别为0.31/1.26/2.59 亿元，2021-2024 年归母净利润CAGR为78%，以当前总股本4.54 亿股计算的摊薄EPS 为0.07/0.28/0.57 元。

    　　公司当前股价对2022-2024 年预测EPS 的PE 倍数分别为463/113/55倍，我们选取光伏及半导体领域镀膜设备领军公司作为可比公司，考虑到公司在ALD 领域具有领先优势，且在光伏及半导体领域拓展具备较大业绩弹性，首次覆盖给予“增持”评级。

    　　风险提示

    　　1）光伏及半导体行业后续扩产不及预期的风险。2）技术迭代带来的创新风险。3）国内市场竞争加剧的风险。4）核心技术人员流失或不足的风险。5）测算市场空间的误差风险。6）研究依据的信息更新不及时，未能充分反映公司最新状况的风险。