核心观点：

    本土薄膜设备领军者，高研发投入夯实竞争壁垒。拓荆科技深耕高端半导体专用设备领域十二年，以强大的自主研发能力为发展基石，通过国际化、专业化的研发团队和对标国际巨头的研发投入，持续推出解决了半导体制造关键难题的新工艺和新产品，作为行业后发者成功打破了海外厂商的长期垄断格局。同时，通过海内外市场的开拓，公司产品的品牌影响力不断增强，市场占有率持续提升，业绩高速增长，发展前景广阔。

    薄膜沉积设备空间广阔，国产替代势在必行。薄膜沉积设备关乎芯片功能实现，是半导体制造的核心工艺设备之一。在下游应用需求增长和芯片工艺技术进步的背景下，薄膜沉积设备的需求量和技术要求显著提升，全球半导体薄膜沉积设备市场规模稳步增长。市场需求带动了全球产能中心向中国大陆转移，中国大陆正逐渐成为全球半导体产能重心，未来，中国薄膜沉积设备市场将受益于产能转移和国产化替代，市场空间有望持续扩展。

    行业龙头厚积薄发，引领薄膜沉积设备国产替代。公司以PECVD 为核心，向SACVD 和ALD 领域不断拓展，产品应用覆盖日趋完善。公司研发实力雄厚，自主研发的核心技术达国际先进水平，建立了丰富的技术储备，持续引领国内先进制程配套设备的研发。同时，公司拥有丰富的产业化经验，积累了众多优质客户资源，是国内薄膜沉积设备行业的领军者，未来有望充分受益于薄膜沉积设备的国产化进程。

    盈利预测与投资建议。预计公司22-24 年营收分别为12.29/18.96/24.07 亿元，受益于行业高景气度和国产替代进程推进，公司未来业绩有望维持高速增长，参考可比公司估值，给予公司22 年17 倍PS，合理价值为165.26 元/股，首次覆盖，给予“买入”评级。

    风险提示。技术创新风险；产品验收周期较长风险；市场竞争风险。