国内PECVD 龙头厂商，国际化研发团队助力发展。公司2010 年成立，自成立至今一直专注于半导体薄膜沉积设备业务，主要产品包括PECVD 设备、ALD 设备和SACVD 设备三个系列，目前公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备和SACVD 设备厂商。公司的产品已适配国内最先进的28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 芯片和64/128 层3D NAND FLASH 晶圆制造产线。以姜谦、吕光泉前后两任董事长为核心的五名国家级高层次专家组建起一支国际化的技术团队，研发经验和产线调试经验丰富，助力公司长期发展。

    半导体设备需求旺盛，技术升级拉动薄膜沉积设备投资提升。受益新能源汽车、5G手机、人工智能和可穿戴设备等新技术、新产品的发展，据WSTS 预测，全球半导体产品市场规模将在2022 年增长至6015 亿美元，同比增长9%，设备投资需求亦将进一步提升。同时，逻辑芯片结构复杂化推动沉积设备用量提升，以中芯国际180nm8 寸产线和90nm12 寸产线为例，每万片月产能所需的CVD 设备、PVD 设备分别增加3 倍和4 倍左右。存储芯片方面，3D NAND 相比2D NAND 薄膜沉积设备投资占比由18%提升至26%。

    深耕PECVD 领域，同时布局SACVD、ALD 设备，引领CVD/ALD 设备国产化。

    薄膜沉积设备占晶圆制造设备投资比例约22%；薄膜沉积设备中，PECVD 设备占比约33%，是最主要薄膜沉积设备类型，ALD 在其中占比约11%，加上SACVD 设备，拓荆科技约可覆盖近半的薄膜沉积设备需求。从国产化角度看，目前薄膜沉积设备国产化率仅约5.5%（拓荆科技占据3.8%，主要供应PECVD 设备，北方华创占据1.7%，主要供应PVD 设备），未来仍有广阔国产化空间。拓荆客户群体包括中芯国际、长江存储、华虹集团、ICRD 等主流大客户，受益大客户产能建设和对SACVD、ALD 设备的验证通过，公司份额有望快速提升。同时，公司也通过募投项目进一步加强28nm 以下产品竞争力，并积极开展10nm 以下产品开发。

    我们预测公司22-24 年每股收益分别为0.92、1.72、2.86 元，由于薄膜沉积设备国产化空间巨大，我们采用绝对估值法（FCFF），给予166.44 元目标价，首次给予买入评级。

    风险提示

    半导体设备行业景气度不及预期；客户验证进展不及预期；零部件断供风险；市场份额提升不及预期；政府补助持续性风险。