国内唯一PECVD、SACVD 产业化供应商，打破外资垄断。拓荆科技成立于2010 年，十余年来专注于半导体薄膜沉积设备，承担多项国家科技重大专项，是国内唯一一家产业化应用PECVD 和SACVD 设备的供应商，主要产品包含PECVD 设备、ALD 设备及SACVD 设备三个系列，产品已适配国内最先进的28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片及64/128 层3D NAND FLASH 晶圆制造产线，并应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂，累计发货超150 台，打破外资厂商在国内的垄断局面。

    　　营收连续高增，盈利能力快速提升。受益于国内半导体设备需求快速增长，公司持续研发投入进行产品迭代，提升竞争力，公司营收自2018 年0.71 亿元增长至2021年7.6 亿元，归母净利润由2018 年的-1.0 亿元，到2021 年扭亏为盈6848.7 万元。

    　　此外随着规模化逐步体现、工艺技术提升、先进工艺机台推出，公司毛利率快速提升，由2018 的31.67%提升至2021 年44.0%，2022Q1 进一步提升至47.4%。

    　　2020 年全球薄膜设备市场达到138 亿美元，占IC 制造设备21%；其中主要是CVD 和PVD，合计占IC 制造设备18%。CVD 市场规模达到89 亿美元，主流是设备包括PECVD、Tube CVD、LPCVD 和ALD 等。整个薄膜市场市占率最高的是AMAT。

    　　高端领域如ALD 受ASM、TEL 和Lam 等海外龙头主导。根据Gartner，全球CVD 市场前五大供应商包括AMAT（28%）、Lam Research（25%）、TEL（17%）、Kokusai（原日立高新，8%）、ASM（11%）。

    　　国内薄膜厂商加速导入，国产化率仍有较大提升空间。根据招标网数据统计，长江存储在2019~2020 年采购薄膜类设备约每年200 多台（主要是CVD 和PVD），主要类别以CVD 为主，其中原子层沉积70~80 台。从国产替代率而言，溅镀（PVD 类）北方华创供应数量比重较高，合计达到将近20%；CVD 类国产替代率较低，主要国产供应商拓荆科技供应占比约2~3%。北方华创、拓荆科技在华虹无锡、华力集成项目合计国产化率约10~15%。

    　　国产PECVD 领军者，研产销均有先发优势，充分受益国产化进程。在PECVD、ALD 及SACVD 设备领域，拓荆科技产品总体性能和关键性能参数已达国际同类设备水平。作为国内唯一实现PECVD 及SACVD 设备产业化应用的厂商，2019 至2020 年公司PECVD设备中标机台数量占长江存储、上海华力、无锡华虹和上海积塔四家招标总量的16.65%；同时公司还已与某国际领先晶圆厂建立业务联系，发货两台设备至该厂先进制程研发产线，奠定全球市场基础。我们预计公司将在2022 年至2024 年实现收入11.87/17.64/23.27 亿元，归母净利润1.12/2.26/3.56 亿元，对应当前估值135.0/66.7/42.4x，首次覆盖，给予“买入”评级。

    　　风险提示：国产替代进展不及预期、全球贸易纷争影响、下游需求不确定性