支撑评级的要点

    管理团队：丰富的国际半导体设备从业经验。公司创始人、董事长、总经理等在内的技术团队拥有泛林、美国诺发、Mattson、Intel 等的CVD、ALD、量测、刻蚀等设备与工艺方面长达40 年的丰富行业经验。

    市场定位：专注薄膜沉积设备与工艺，目标客户均为国内外主流晶圆制造客户。公司核心产品包括PECVD、ALD、SACVD，三大产品合计价值量约占薄膜沉积设备（CVD+PVD+ECD）的1/2，约占WFE 的10%。公司核心客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内外主流晶圆厂客户，已广泛应用于国内晶圆厂14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm 及以下制程产品验证测试。

    市场地位：主导着介质薄膜沉积设备的国产化。成立于2010 年，与北方华创、盛美、中微、芯源微、华海清科等同属于国内知名的半导体工艺设备厂商，主导介质薄膜沉积设备的国产化。据招股书，PECVD 的主要竞争对手是AppliedMaterials、Lam Research，拓荆在部分本土产线的市占率17%；SACVD 竞争对手是Applied Materials，拓荆的市占率25%；ALD 主要竞争对手是ASMI 和LamResearch。2021 年拓荆收入跨越1 亿美元门槛。

    底层技术：自主研发的8 大核心技术达到国际先进水平。公司的8 大核心技术包括先进薄膜工艺设备设计、反应模块架构布局、半导体制造系统高产能平台、等离子体稳定控制技术、反应腔腔内关键件设计、半导体沉积设备气体输运控制系统、气体高速转换系统设计、气体高速转换系统设计技术。目前拓荆已研发并生产16 种不同工艺的 PECVD 设备，已研发并生产3 种不同工艺的 SACVD 设备，已量产PE-ALD、正在研发Thermal-ALD。

    财务表现：订单充裕，收入高增长，毛利率升至44%。2021 年底合同负债4.88亿元，相比2020 年1.34 亿元大幅增长。公司收入从2018 年的0.71 亿元增长至2021 年的7.58 亿元，复合增速120%，2022Q1 收入指引1-1.2 亿元，同比增长73%-108%。

    成长逻辑：市占率提升叠加国内外半导体设备行业长期成长。2022 年全球WFE 市场规模1000 多亿美元，其中薄膜沉积设备市场规模约200 亿美元，拓荆三大产品对应可覆盖全球市场规模近75 亿美元、对应中国大陆市场约15-22.5 亿美元，而拓荆去年收入为7.58 亿元，未来成长空间广阔。

    投资建议

    预计未来三年收入的复合增速达50%，IPO 定价对应市值相当于22、23 年PS估值7 倍和5 倍，相比行业平均有显著估值优势，首次覆盖，给予买入评级。

    评级面临的主要风险

    半导体设备行业周期性风险；零部件供应全球紧张风险；无控股股东和实际控制人的经营决策风险。