公司披露2021 年中报业绩，实现营业收入2.83 亿元，同比+47.60%；实现归母净利润0.72 亿元，同比+44.93%。剔除公司股权激励带来的股份支付费用后，实现归母净利润 0.96 亿元，同比+83.61%；扣非归母净利润为0.58 亿元，同比+13.05%。扣非净利润增速降低系研发、市场开拓及供应能力提升等方面投入增大，期间费用增加所致。

    　　报告要点：

    　　量产产品改良优化，新产品持续开发导入

    　　抛光液：1）铜及铜阻挡层产品，持续优化已量产14nm 及以上产品的性能及稳定性，10-7nm产品测试并优化，开发128 层以上3D NAND 和19/17nmDRAM 用产品。2）钨抛光液产品，多款产品用于3D NAND 先进制程中，新产品在DRAM 及模拟芯片完成论证并在多家客户实现量产销售。3）介电材料抛光液，以二氧化铈为基础的产品已实现量产销售，在逻辑芯片领域处于客户论证阶段。功能性湿电子化学品：1）刻蚀后清洗液，铝制程及铜大马士革工艺刻蚀后清洗液已量产并广泛应用于8/12 英寸逻辑、存储器件及特色工艺等晶圆制造领域。2）光刻胶剥离液，广泛应用于后道晶圆级封装等超越摩尔领域。

    　　产能扩张和技术推进增加材料需求，加速建立核心原料自主可控根据CMC Material 数据，2021 年全球晶圆制造用抛光液市场规模为18 亿美元，同比+8%，预计未来五年复合增速6%。1）逻辑芯片：制程推进增加CMP 抛光步骤及抛光液耗用量。2）存储芯片：随着由2D NAND 向3DNAND 技术演进，CMP 抛光步骤数近乎翻倍，带动钨抛光液及其他抛光液耗用量增长。

    　　公司与国内具备优质研发及生产资质的合作伙伴共同投资设立山东安特纳米材料有限公司，积极建立关键原材料硅溶胶的自主可控生产供应能力。

    　　公司通过自建、合作等方式加强功能性湿电子化学品原料的自主可控，已取得突破性进展。

    　　投资建议与盈利预测

    　　预计2021-2023 年公司营收6.24、8.74、12.23 亿元，归母净利润1.54、2.22、3.20 亿元，当前市值对应2021-2023 年PE 分别为93、65、45 倍，维持“增持”评级。

    　　风险提示

    　　新产品开发进度不及预期；行业景气度不及预期。