结论与建议：

    　　事件：公司发布20年年报，20年营收4.22亿元，yoy+48%，归母净利润1.54亿元，yoy+134%，扣非后归母净利润为0.59亿元，yoy+37%，业绩增长符合预期。

    　　其中Q4营收1.14亿元，yoy+42%，归母净利润0.40亿元，yoy+106%，扣非后归母净利润为-0.06亿元。公司是国内主流的CMP抛光液供应商，在光刻胶去除剂领域也不断成长，国产替代背景下，公司市占率将进一步扩大，业绩增长有望，维持“买进”评级。

    销量大幅增长，市占率不断提高：公司已成为国内CMP 抛光液领域主流的供应商，20 年CMP 抛光液板块营收3.75 亿元，yoy+59%，维持高速增长；销量达9560 吨，同比上升51%；毛利率达55%，同比上升0.64 个百分点。光刻胶去除剂板块营收0.47 亿元，yoy-4%；毛利率30%，同比下降1.66 个百分点；销量同比上升24%，但均价有所下跌，导致营收和利润率下降。根据SEMI 计算，公司CMP 抛光液在全球市场的份额由2019年的3%成长到4.5%。未来随着5G 通信、人工智慧、宽禁带半导体等应用领域的不断发展和国产替代不断加速，公司的市占率将进一步上升。

    研发、管理、财务费用及非经常性损益增加：20 年公司研发费用8890万元，yoy+55%，管理费用4106 万元，yoy+38.39%，财务费用409 万元，同比增加1222 万元。2020 年公司实施股权激励计，产生股份支付费用2673 万元。宁波生产厂房竣工而厂务系统仍在建设中，生产线尚未正式投入使用，相关折旧也对管理费用有一定影响。20 年公司非经常性损益大幅增加，主要系公司持有的金融资产产生的公允价值变动损益增加0.94 亿元。除此之外，公司Q4 扣非归母净利润小幅亏损，除费用的增加外，还因受新会计准则统计口径影响，将全年的购买结构性存款产生的利息收入从财务费用调整至投资收益和公允价值变动损益。

    技术升级，保持核心竞争力：公司技术不断升级，铜和阻挡层抛光液已在14nm 产线实现量产，10-7nm 技术节点的产品平台研发完成，已在测试优化；钨抛光液、介电材料抛光液在3D NAND 先进产程中实现量产。半水性光刻胶去除剂实现 130-40nm 技术节点产品销售，并成功批量应用到逻辑电路、3D NAND、DRAM 先进制程中；水性光刻胶去除剂在28nm 技术节点进入量产阶段。作为典型的技术密集型行业，公司高度重视研发，研发费用率大幅提升，达21%，20 年公司新增10 项发明专利，后续将为公司长远发展保驾护航。

    盈利预测：预计21 年归母净利润为1.58 亿元，同比增长3%，增速放缓，主要是由于20 年公允价值变动损益较高的影响，扣除公允价值变动损益后，公司主营业务利润持续快速增长，同比增长60%。预计2021/22/23年净利润1.58/2.03/2.57 亿元，yoy+3%/+28%/+27%，折合EPS 为2.97/3.81/4.85 元，目前A 股股价对应PE 为70/55/43 倍，维持“买入”评级。

    风险提示：1、新产品开发进度不及预期；2、行业景气度不及预期等。