投资要点：

    　　公司发布 2020 年年报：2020 年公司实现营收 4.22 亿元（YoY+48%), 归母净利润 1.54 亿元（YoY+134%），扣非后归母净利润 5885 万元（YoY+37%)，经营性现金净流入 1.13 亿元（YoY+34%)。公司收入持续快速增长，扣非前后差距主要系持有的金融资产确认 9037 万元公允价值变动损益。Q4 单季营收 1.14 亿元（YoY+42%, QoQ-3%), 归母净利润 4038 万元（YoY+106%, QoQ-37%), 扣非后归母净利润-615 万元，扣非后归母净利润小幅亏损，主要系各项费用增加以及新会计准则带来的口径调整等影响。

    　　抛光液全球份额持续提升，先进制程市场突破性增长：受益于公司前期研发的多款新产品在重要客户的关键制程中使用情况良好，客户端用量上升，公司化学机械抛光液全年实现营收 3.75 亿元（YoY+59%），毛利率 54.80%，同比提高 0.64pct。其中铜及铜阻挡层系列实现营收 2.23 亿元(YoY+34%)，其他系列抛光液实现营收 1.52 亿元(YoY+120%)。铜和阻挡层在 14nm 制程获得订单，氧化铈、铜和阻挡层、钨抛光液等产品在 3D NAND 制程中的 128 层技术节点获得订单，公司在 CMP 抛光液的全球市场份额由 2019 年的约3%进一步提高到约 4.5%。随着下游客户需求的增加，公司抛光液有望持续快速增长。光刻胶去除剂板块销量同比增长 24%，但均价下跌，全年实现营收 0.47 亿元，同比减少 4%，毛利率 30.21%，同比减少 1.66pct。

    　　股权激励费用、研发费用、汇兑损失等期间费用增加：全年研发费用 8890 万元，同比增加 3136 万元，管理费用 4106 万元，同比增加 1139 万元，财务费用 409 万元，同比增加 1222 万元。公司于 2020 年 6 月12 日针对核心高管、技术人员等实施股权激励，2020 年股权激励费用 2674 万元。同时因宁波工厂厂房竣工而厂务系统仍在建设中，生产线未正式投入使用，相关折旧费用增加对管理费用也带来一定影响。财务费用增加主要系汇兑损失以及结构性存款收益根据准则变化由利息收入改记入投资收益等。

    　　抛光液全品类布局，持续研发奠定长期成长基础：公司积极向抛光液全品类进行布局，包括硅、浅沟槽隔离、介质层、钨、铜以及阻挡层、硅通孔、氧化铈等系列，旨在为客户提供完整的一站式解决方案。铜及阻挡层抛光液在 10-7nm 技术节点的研发按照计划进行。钨抛光液产品平台逐步完善，多款产品开始应用到 3DNAND 先进制程，在逻辑芯片领域也已进入客户论证阶段。介电材料抛光液与客户共同开发的以二氧化铈为基础的产品突破技术瓶颈，在 3D NAND 先进制程中取得重要进展，并获得关键客户认可。公司铜大马士革工艺光刻胶去除剂已经量产并持续扩大应用；28nm 技术节点硬掩模工艺光刻胶去除剂取得突破性进展，并在重要客户上线稳定使用，实现该类产品在 28nm 技术节点的进口替代；14nm 技术节点后段蚀刻残留物去除剂的研究也在稳步推进。公司持续高研发投入，保证新品研发的有序推进，奠定公司长期成长基础。

    　　投资建议：考虑抛光液产品客户端持续放量，上调 2021-2022 年归母净利润 1.59、2.31 亿元（原值 1.42、2.03 亿元），新增 2023 年归母净利润预测为 3.36 亿元，对应 PE 为 63X、43X、30X, 维持“增持”评级。

    　　风险提示：国内半导体投产进度不及预期；客户开拓不及预期；新产品开发不及预期