事项：

    2024 年10 月29 日，公司发布2024 年第三季度报告：

    1）2024Q1-Q3：公司实现营业收入55.07 亿元，同比+36.27%；毛利率42.22%，同比-3.61pct;归母/扣非归母净利润9.13/8.13 亿元，同比-21.28%/+10.88%；

    2）2024Q3：公司实现营业收入20.59 亿元，同比/环比+35.96%/+11.77%；毛利率43.73%，同比/环比-2.01pct/+5.56pct；归母净利润3.96 亿元，同比/环比+152.63%/+48.11%；扣非归母净利润3.30 亿元，同比/环比+53.79%/+49.92%。

    评论：

    2024Q3 刻蚀设备加速放量，在手订单饱满为业绩增长提供有力保障。半导体设备国产替代持续推进，公司中高端刻蚀设备快速放量，业绩实现高增长。

    2024Q3 公司营收同比+35.96%至20.59 亿元，其中刻蚀设备收入17.15 亿元，同比+49.41%。客户、产品结构调整带动公司2024Q3 毛利率环比+5.56pct 至43.73%，净利率部分受到研发投入增加、股权投资收益增加等影响。订单方面，2024Q1-3 公司新增订单同比约+52.0%至76.4 亿元，其中刻蚀设备新增订单62.5 亿元；LPCVD 新增订单 3.0 亿元，为公司业绩持续提高提供坚实基础。

    国际贸易形势变化加速设备国产化，公司刻蚀设备将持续受益。外部贸易环境变化推动半导体设备国产化进程加速，以中微公司为代表的国内半导体设备厂商将持续受益。公司ICP 和CCP 设备正快速突破，在逻辑产线中，公司开发的12 英寸高端刻蚀设备已经在从65nm 到5nm 及更先进技术结点大量量产;在3D NAND 中，公司的等离子体刻蚀设备已应用于128 层及以上的量产，新开发的用于超高深宽比掩膜刻蚀的ICP 设备和用于超高深宽比介质刻蚀的CCP 设备都已验证成功，进入量产阶段。展望未来，在高端存储和逻辑产线的国产化过程中，公司设备有望发挥更为重要的作用。

    新产品开发进展顺利，平台化布局打开远期成长空间。2024Q1-3 研发支出同比增长7.56 亿元（yoy+95.99%），研发支出占公司营收比例约为28.03%，高研发投入下公司平台化加速。刻蚀设备方面，公司等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，2024 年针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产；薄膜设备方面，2024Q1-3 公司LPCVD 设备新增订单3.0 亿元；EPI 设备方面，公司产品已顺利进入客户端量产验证阶段，已完成多家先进逻辑器件与 MTM 器件客户的工艺验证。

    投资建议：考虑到公司尚处于高研发投入阶段，我们将公司2024-2026 年归母净利润预测由18.00/27.37/36.08 亿元调整为14.92/24.33/32.10 亿元。结合公司历史估值及行业平均估值水平，给予公司2025 年12 倍PS，对应目标价为228.0 元，维持“强推”评级。

    风险提示: 国际贸易形势变化；下游扩产不及预期；上游零部件供应短缺；行业竞争加剧。