投资要点

    　　营收持续增长，净利润同比下滑主要受投资收益减少、研发投入高增等影响：2024H1 公司实现营收34.48 亿元，同比+36%，其中等离子体刻蚀设备收入26.98 亿元，同比+56.68%，占比78.2%，CCP 和ICP 收入均实现高增；MOCVD 收入1.52 亿元，同比-49.04%，占比4.4%，主要系公司在蓝绿光LED 和Mini-LED 行业保持绝对领先地位，该终端市场需求延续下降趋势；LPCVD 实现首台销售，收入0.28 亿元。2024H1 实现归母净利润5.17 亿元，同比-48%，主要系投资收益同比大幅下降5.69 亿元；扣非净利润为4.83亿元，同比-7%，主要由于公司研发投入显著提升，此外本期股份支付费用较多，剔除股份支付费用影响后的扣非净利润为6.94 亿元，同比+12%。Q2单季营收为18.43 亿元，同比+41%，环比+15%；归母净利润为2.68 亿元，同比-63%，环比+7%。

    　　盈利能力主要受会计准则变化有所下降，研发投入大幅提升：2024H1 毛利率为41.32%，同比-4.57pct，主要系新会计准则下，公司将上半年约9500万元的产品预提质保费用由销售费用计入了营业成本，若剔除该影响，在原会计准则下毛利率为44.07%，同比仅-1.82pct（我们认为该部分下滑主要来自产品结构调整）；销售净利率为14.97%，同比-24.7pct；期间费用率为26.5%，同比+4.6pct，其中销售费用率为5.9%，同比-1.8pct，管理费用率为5.6%，同比+0.8pct，研发费用率为16.5%，同比+4.9pct，财务费用率为-1.4%，同比+0.8pct。上半年公司研发投入为9.7 亿元，同比+111%，研发投入占收入比例提升10pct 达到28%。Q2 单季毛利率为38.17%，同比-7.73pct，环比-6.77pct；销售净利率为14.51%，同比-41.29pct，环比-0.99pct。

    　　存货&合同负债同环比增长，新签订单持续高增：截至2024Q2 末公司合同负债为25.35 亿元，同环比+40%/+117%，存货为67.78 亿元，同环比+78%/+21%。2024H1 公司新签订单41.0 亿元，同比+40%，其中等离子体刻蚀设备新签订单39.4 亿元，同比+51%，主要系公司在国内主要客户产线上的市占率大幅提高；新产品LPCVD 开始放量，新签订单达1.68 亿元。

    　　2024H1 公司共生产设备833 腔（同比+420%），对应产值约68.65 亿元（同比+402%），为全年出货及确收奠定坚实基础。

    　　刻蚀产品持续领先，镀膜产品拓展顺利：（1）CCP 设备：在逻辑领域已对＞28nm 的绝大部分CCP 刻蚀应用和≤28nm 的大部分 CCP 刻蚀应用形成较全面覆盖，且已有大量机台进入国际≤5nm 逻辑。在存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60:1 深宽比结构的能力，成功进入3D 存储芯片产线。同时，公司积极布局超低温刻蚀技术，储备≥90:1 深宽比刻蚀技术。（2）ICP 设备：Primo Nanova ICP 在客户端安装腔体数量近三年CAGR 超70%，在先进逻辑芯片、DRAM 和3D NAND 产线均取得批量订单。TSV 刻蚀设备也已应用于先进封装。此外，公司正在研发用于5-3nm逻辑芯片的ICP 刻蚀机。（3）MOCVD：积极布局三代半设备，现已在LED等GaN 基设备市场占据领先地位，并在Micro-LED 领域的MOCVD 设备开发上取得良好进展。用于SiC 器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试。（4）薄膜沉积设备：公司首台CVD 钨设备已通过关键存储客户现场验证，并获得客户重复量产订单；应用于高端存储和逻辑器件的ALD TiN 设备正稳步推进；EPI 设备也已进入客户验证阶段。

    　　盈利预测与投资评级：考虑到公司订单增长趋势，我们维持公司2024-2026年归母净利润分别为20.83/25.81/36.37 亿元，对应PE 分别为41/33/24 倍。

    　　基于公司的高成长性，维持“买入”评级。

    　　风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。