事件：

    　　1.公司发布2024 半年度报告，2024H1 实现营收34.48 亿元，同比增加36.46%；实现归母净利润5.17 亿元，同比减少48.48%；实现扣非归母净利润4.83 亿元，同比减少6.88%。

    　　2.从Q2 单季度业绩来看，实现营收18.42 亿元，同比增加41.37%，环比增加14.81%；实现归母净利润2.67 亿元，同比减少63.23%，环比增加7.39%；实现扣非归母净利润2.20 亿元，同比减少24.32%，环比减少16.23%。

    　　24H1 营收同比高增，刻蚀设备份额快速提高：

    　　24H1 营收34.48 亿元，同比增长36.46%，，主要系针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增下运量显著提升，CCP 和ICP 刻蚀设备的销售增长和在国内主要客户芯片生产线上市占率均大幅提升。从营收结构来看，24H1 刻蚀设备收入为26.98 亿元，同比增长约56.68%，占营业收入的比重由上年同期的68.16%提升至本期的78.26%；MOCVD 设备收入1.52 亿元，同比减少约49.04%。从净利润来看，公司上半年归母净利润为5.17 亿元，较上年同期下降约4.86 亿元，同比减少约48.48%，主要系2023 年公司出售了持有的部分拓荆科技股份有限公司股票，产生税后净收益约4.06 亿元，而2024 年公司并无该项股权处置收益;以及公司上半年主要由于研发总投入增长下扣非后归母净利润较上年同期减少0.36 亿元。

    　　24H1 新签订单延续高增长：

    　　从订单来看，2024 上半年公司新增订单47.0 亿元，同比增长约40.3%，新签订单延续高增长。其中刻蚀设备新增订单39.4 亿元，同比增速约50.7%；LPCVD 上半年新增订单1.68 亿元，新产品开始启动放量。

    　　持续加大研发投入，先进制程设备顺利推进：

    　　公司持续加大研发投入，2024 年上半年公司研发投入9.70 亿元，同比大幅增长110.84%，占收入比例为28.15%。等离子体刻蚀设备方面：针对逻辑和存储芯片制造中最关键刻蚀工艺的多款设备已在客户产线上展开验证；针对超高深宽比刻蚀自主开发的具有大功率400kHz 偏压射频的Primo UD-RIE 已经在生产线验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的量产能力；多款ICP 设备在先进逻辑芯片、先进DRAM 和3D NAND 产线验证推进顺利并陆续取得客户批量订单。薄膜沉积设备方面：多款新型设备产品进入市场，部分设备已获得重复性订单；钨系列薄膜沉积产品可覆盖存储器件所有钨应用，已完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALD W 钨设备的验证，并取得了客户订单；组建了EPI 设备研发团队，EPI 设备已顺利进入客户验证阶段。

    　　投资建议：

    　　我们预计公司2024 年~2026 年收入分别为82.68 亿元、109.14 亿元、144.06 亿元，归母净利润分别为20.92 亿元、26.02 亿元、34.65 亿元。考虑公司在刻蚀设备领域的核心技术与客户优势，以及公司平台化战略下新设备突破与产业化顺利推进。给予公司2024 年PE52.00X 的估值，对应目标价175.24 元。给予“买入-A”投资评级。

    　　风险提示： 下游晶圆厂扩产不及预期，新产品导入放量不及预期，中美博弈影响供应链，市场竞争加剧。