1Q24 营收同比增长31%，非经损益减少和费用增加致归母净利润略微下滑。

    　　1Q24 公司实现营业收入16.05 亿元（YoY +31.2%，QoQ -27.8%），归母净利润2.49 亿元（YoY -9.5%，QoQ -60.2%），扣非归母净利润2.63 亿元（YoY+15.4%，QoQ -42.6%），业绩环比下降系季节因素，归母净利润同比下降主因：1）1Q24 非经常性损益由于公司所持有以公允价值计量的股权投资的公允价值因股价下跌同比减少约0.41 亿元、政府补助同比减少0.23 亿元；2）期间费用同比增加，其中研发费用2.14 亿元（YoY +62.1%）、销售费用0.73亿元（YoY +42.7%）、管理费用0.73 亿元（YoY +32.7%）。

    　　刻蚀设备销售额同比增长64%，存货和合同负债增长显示订单饱满。1Q24 公司刻蚀设备实现收入13.35 亿元（YoY +64.1%），营收比重增长至83.2%（1Q23：66.6%）；受LED 终端市场波动影响，MOCVD 设备收入0.38 亿元（YoY -77.3%）；由于半导体下游客户的产能利用率波动影响，备品备件及服务收入约2.32亿元（YoY -4.4%）。截至1Q24 末，合同负债增至11.69 亿元（QoQ +51.5%），系刻蚀设备的产量和发货量增长显著，公司收到较多发货款导致合同负债余额增加；存货增长至55.84 亿元（QoQ +31.1%），系订单增长下公司采购原材料，大量生产机台及向客户付运机台。

    　　先进工艺刻蚀机验证顺利，薄膜沉积工艺覆盖度提升。2023 年，公司CCP和ICP 刻蚀设备在国内主要客户芯片生产线上市占率大幅提升，针对28nm及以下大马士革工艺的CCP 刻蚀机已进入国内领先客户开展现场验证，超高深宽比刻蚀机在先进存储厂验证，TSV 刻蚀设越来越多被应用于先进封装和MEMS 器件生产。已有四款LPCVD 设备和ALD 设备进入市场，其中三款已获得客户认证，并开始获得重复性订单，其他十多种薄膜沉积设备将陆续进入市场。新开发和硅和锗硅外延EPI 设备、硅片的EPI 外延设备和晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多个新产品也会于近期投入市场验证。

    　　投资建议：国内半导体先进工艺设备公司，维持“买入”评级。

    　　我们维持2024-2026 年营业收入83.79/105.37/132.25 亿元、归母净利润20.51/25.89/34.07 亿元的盈利预测， 当前股价对应2024-2026 年40.8/32.3/24.5 倍PE， 维持“买入”评级。

    　　风险提示：下游晶圆制造产能扩充不及预期风险，新产品开发不及预期的风险，国际关系波动风险等。