中微公司发布2023 年报，全年收入和利润同比稳健增长，刻蚀设备签单和收入同比高增长，大马士革和极高深宽比刻蚀设备验证顺利，薄膜类新品持续获得客户订单，维持“增持”投资评级。

    　　2023 全年收入和利润同比稳健增长，23Q4 扣非净利率同环比提升。1）2023全年：2023 全年收入62.6 亿元，同比+32%；毛利率45.8%，同比基本持平；归母净利润17.9 亿元，同比+52.7%；扣非归母净利润11.9 亿元，同比+29.6%；非经常损益主要来自出售拓荆科技股票产生税后收益约4.06 亿元；2）23Q4：23Q4 收入22.2 亿元，同比+31%/环比+46.7%；毛利率45.8%，同环比稳定；归母净利润6.3 亿元，同比+66%/环比+299%；扣非净利润4.6亿元，同比+66%/环比+113.2%；23Q4 扣非净利率20.6%，同比+4.4pcts/环比+6.4pcts。

    　　刻蚀设备贡献主要增长动力，MOCVD 设备收入短期承压。1）刻蚀设备：

    　　2023 年收入47 亿元，同比+49.4%；23Q4 收入18.3 亿元，同比+59.3%/环比+59.1%。公司ICP 和CCP 设备在国内主要客户产线市占率大幅提升，TSV 硅通孔刻蚀设备在先进封装和MEMS 器件得到更多应用；2）MOCVD设备：2023 年收入4.6 亿元，同比-34%；23Q4 收入0.5 亿元，同比-83.7%/环比-53.6%。MOCVD 设备短期承压，主要系下游LED 景气度下滑影响。

    　　刻蚀设备签单高增长，24Q1 发货机台增长较多。2023 全年新签订单83.6亿元，同比+32.3%，其中刻蚀设备新签订单69.5 亿元，同比+60%；MOCVD设备新签订单2.6 亿元，同比-72.2%，主要系终端市场波动影响。截至2023年底，公司存货为42.6 亿元，环比+1.7 亿元，主要系销售订单增长；公司合同负债为7.7 亿元，环比-5.9 亿元，主要系季节性因素，Q4 确认收入较多但因销售合同等因素，出货量不多，导致预收款增量不多；公司表示，24Q1机台发货量有较大增长。

    　　大马士革和极高深宽比CCP 设备验证顺利，ICP 设备工艺覆盖率大幅提升。

    　　1）CCP 设备：极高深宽比机台UD-RIE 已在DRAM 和3D NAND 产线上验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比的能力；大马士革工艺机台SD-RIE 针对28nm以下，进入国内领先逻辑客户开展现场验证；晶圆边缘Bevel 刻蚀设备完成开发，即将进入客户验证；2）ICP 设备：Nanova VE HP 在先进逻辑和存储验证工艺覆盖率大幅提升；8/12 英寸ICP 机台Primo TSV 200E/300E 在晶圆级、2.5D 先进封装继续获得重复订单，在12 英寸3D TSV 工艺上成功验证，并在欧洲客户12 英寸微机电系统产线上获得验证机会。

    　　薄膜类钨沉积设备取得客户订单，EPI 设备等新品持续验证。1）MOCVD设备：Prismo Unimax 在Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先地位；多款化合物外延设备交付客户验证；2）薄膜设备：完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALD-W 钨设备的验证，并取得客户订单；进入原子层沉积设备和平板显示用PECVD 设备的开发；EPI 设备进入工艺和客户验证阶段；公司计划在2024 年推出超10 款新品，快速扩大工艺覆盖率；3）光学检测设备：通过投资上海睿励持续布局。

    　　投资建议。公司2023 年收入和利润同比稳健增长，新签订单同比高增长，刻蚀设备贡献主要增长动力。展望2024 年，下游头部晶圆厂设备采招节奏有望边际提速，或将带来国内设备签单增速边际改善，同时公司大马士革和极高深宽比刻蚀设备验证顺利，各新品加速突破，工艺覆盖率和市占率有望快速提升。我们调整公司2024/2025/2026 年收入至81.7、102.4、125.3 亿元，综合考虑其他非经常损益和股权激励费用影响，调整2024/2025/2026年归母净利润至20.6、25.5、31.4 亿元，对应PE 为46.7、37.7、30.6 倍。

    　　维持“增持”投资评级。

    　　风险提示：下游晶圆厂扩产不及预期，美国半导体设备出口管制加剧，新品研发不及预期，行业竞争加剧的风险。