事项：
公司公布2023 年三季报， 2023 年前三季度公司实现营收40.41 亿元（32.80%YoY），归属上市公司股东净利润11.60亿元（46.27%YoY）。
平安观点：
持续高研发投入，受益于半导体设备国产化：2023年前三季度公司实现营收40.41亿元（32.80%YoY），归属上市公司股东净利润11.60亿元（46.27%YoY），扣非后归母净利7.34亿元（13.94%YoY，公司于2023年上半年出售了部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约4.06亿元，公司计入非经常性损益的因股权投资产生的公允价值变动损益和投资损益合计为亏损0.90亿元）。2023年前三季度公司整体毛利率和净利率分别是45.83%（0.32pctYoY）和28.67%（2.66pctYoY）。公司2023年前三季度刻蚀设备收入为28.70亿元，较去年同期增长约43.40%，毛利率达到46.46%；公司2023年前三季度MOCVD设备收入为4.09亿元，较去年同期增长约5.50% ， 前三季度MOCVD 设备的毛利率达到36.29%。费用端：2023年前三季度公司销售费用率、管理费用率、财务费用率和研发费用率分别为8.36% （ -0.58pctYoY ） 、5.07% （ 0.1pctYoY ） 、-1.57% （ 3.01pctYoY ） 和12.43%（-2.43pctYoY），公司费用率稳定。1）研发投入方面：公司继续保持较高的研发投入，与国内外一流客户保持紧密合作，相关设备产品研发进展顺利、客户端验证情况良好。为更好地完善公司的产业链布局，进一步提升公司的产能规模和综合竞争实力，公司正在上海临港新片区建设中微临港产业化基地及中微临港总部和研发中心，在南昌高新区建设中微南昌产业化基地。
刻蚀设备国内龙头，国产替代稳步推进：1）CCP刻蚀设备：公司CCP刻蚀设备产品不断完善、丰富产品的性能， 继续保持竞争优势，PrimoAD-RIE、PrimoSSCAD-RIE、PrimoHD-RIE等产品已广泛应用于 国内外一线客户的集成电路加工制造生产线。公司已有的产品已经对28纳米以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28纳米及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。在存储器件方面，公司自主开发的超高深比刻蚀机采用大功率400KHz取代2MHz作为偏压射频源，通过低频射频有效提升离子入射能量和准直性，极大的提高深宽比刻蚀的能力。2）ICP刻蚀设备：
公司的ICP刻蚀设备在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的50多个客户的生产线上量产，并持续进行更多刻蚀应用的验证。公司ICP刻蚀设备产品部门开展技术创新，成功地推出了适用于更高深宽比结构刻蚀的NanovaVEHP和兼顾深宽比和均匀性的NanovaLUX两种ICP设备。
MOCVD设备市场领先，布局第三代半导体设备：公司用于蓝光照明的PrismoA7、用于深紫外LED的PrismoHiT3、用于MiniLED显示的PrismoUniMax等产品持续服务客户，公司累计MOCVD产品出货量超过500腔。其中PrismoUniMax产品自2021年6月正式发布以来，累计出货量已超过120腔，在Mini-LED显示外延片生产设备领域处于国际领先，针对Micro-LED应用的专用MOCVD设备正开发中。公司还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备市场，推出了用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备PrismoPD5，目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并取得了重复订单。
薄膜沉积设备研发取得阶段性进展，EPI设备设计完成：公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估，在此之前CVD钨在实验室已经完成稳定性测试和客户测验证，应用于金属互联的CVD钨制程设备各项性能已能够满足客户工艺验证的需求。公司开发的应用于先进存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也取得重大进展，多项指标达到国际领先水平，关键客户的实验室测试获得了良好结果，预期在2023年下半年发往客户端进行量产验证。
投资建议：公司作为半导体设备国内龙头企业，充分受益于半导体国产化。结合公司投资收益及股权激励对利润的影响，我们维持此前公司盈利预测，预计2023-2025年公司归母净利润为17.27亿元/18.91亿元/23.17亿元，对应的市盈率分别为59倍、54倍、44倍。公司作为刻蚀设备和MOCVD双龙头，业绩有望持续高增长，维持“推荐”评级。
风险提示：1）下游客户扩产投资不及预期的风险。若下游晶圆厂和LED芯片制造商的后续投资不及预期，对相关设备的采购需求减弱，这将影响公司的订单量，进而对公司的业绩产生不利影响。2）新产品研发不及预期风险。若公司新产品研发不及预期，将影响公司长远发展。3）国际贸易摩擦风险。近年来，国际贸易摩擦不断。如果中美贸易摩擦继续恶化，公司的生产运营将受到一定影响。