2023Q1-Q3 营收稳步增长，公允价值变动损益等因素影响

    Q3 归母净利润2023 年Q1-Q3 公司实现营收40.41 亿元（yoy+32.80%），归母净利11.60亿元（yoy+46.27%）。其中Q3 实现营收15.15 亿元（yoy+41.40%，qoq+16.21%），归母净利1.57 亿元（yoy-51.76%，qoq-78.44%）。23Q3计入非经常性损益的股权投资产生的公允价值变动损益和投资损益有关，合计为亏损 1.02 亿元，较上年同期盈利的1.02 亿元减少约 2.04 亿元。考虑公允价值变动收益影响，我们下调公司盈利预测，预计公司2023-2025年归母净利润分别为15.1/19.9/25.6 亿元，（前值18.4/20.0/25.8 亿元）。可比公司23 年Wind 一致预期PE 均值为66 倍，给予公司23 年66 倍PE，目标价161.70 元（前值172.84 元），维持“增持”评级。

    　　前三季度刻蚀设备收入同比持续增长，深度布局薄膜沉积业务1）刻蚀设备：23Q1-Q3 收入28.70 亿元，同比+43.40%，毛利率达46.46%，23Q3 收入11.48 亿元，同比+63.53%；2）MOCVD 设备：23Q1-Q3 收入4.09 亿元，同比+5.50%，毛利率达36.29%，23Q3 收入1.10 亿元，同比-25.02%。公司的刻蚀设备在客户端不断核准更多刻蚀应用，市场占有率不断提高并不断收到领先客户的批量订单。同时，公司深度布局薄膜沉积业务，已实现多种LPCVD 设备的研发交付以及ALD 设备的重大突破。

    　　净利率受投资损益影响波动较大，期间费用率控制良好23Q1-Q3 公司毛利率为45.83%，同比+0.32pp；净利率为28.67%，同比+2.66pp。23Q3 公司毛利率为45.74%，同比-0.04pp，环比-0.16pp；净利率为10.33%，同比-20.00pp，环比-45.48pp。净利率下降主要系公司计入非经常性损益的股权投资所产生的公允价值变动损益和投资损益影响。

    　　23Q1-Q3 销售/管理/研发/财务费用率为8.36%/5.07%/12.43%/-1.57%，同比-0.58/+0.10/-2.43/+3.02pp，期间费用率24.29%，同比+0.11pp。

    　　半导体国产空间较大，看好公司新型刻蚀技术研发和平台化布局随着美、日、荷对中国先进半导体制程的出口限制升温，设备国产化进度加速，具有技术优势的龙头设备公司有望持续受益。CCP 设备方面，公司不断验证新工艺，涵盖5nm 以下逻辑芯片、200 层以上3D NAND 存储刻蚀；ICP新工艺覆盖7nm 以下逻辑芯片、17nm 以下DRAM 和3D NAND 存储芯片的刻蚀应用，同时公司开发EPI、LPCVD、Mini-LED MOCVD 及碳化硅和氮化镓功率器件MOCVD。我们持续看好公司新型刻蚀技术研发和平台化布局。

    　　风险提示：半导体周期性波动，新产品研发不及预期，国外技术管制风险。