公司23H1 营业收入25.27 亿元，同比+28.13%，各项业务保持稳定增长。公司刻蚀和MOCVD 设备等出货量保持国内领先并实现快速出货，同时EPI、LPCVD 和ALD 等新产品在客户处验证；此外，南昌和临港产能持续扩充，为公司未来发展提供保障。考虑到公司依然处于快成长期，我们给予公司2023年17 倍PS，对应目标价173 元，维持“买入”评级。

    　　 上半年看：公司三大业务收入保持稳定成长，出售拓荆科技股票产生4.06 亿非经常性损益。2023 年上半年公司营业收入为25.27 亿元，同比+28.13%；毛利率为45.89%，同比+0.53pct。其中，刻蚀设备收入为 17.22 亿元，同比+32.53%，毛利率达到 46.16%；MOCVD 设备收入2.99 亿元，同比+ 24.11%，毛利率达到 37.90%；备品备件及服务收入 5.05 亿元，同比+17.13%。23H1 公司归母净利润为10.03 亿元，同比+114.40%；扣非归母净利润为5.19 亿元，同比+17.75%。根据公告，公司于 2023 年上半年出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生税后净收益约 4.06 亿元计入非经常性损益。

    　　 单季度看：Q2 公司净利润高速增长，卖出拓荆科技股票的收益计入Q2 利润。

    　　公司23Q2 单季度实现营收13.03 亿元，同比+27.46%，环比+6.57%；实现毛利率45.90%，同比+0.63pct，环比+0.03pct，毛利率保持稳定；实现归母净利润7.28 亿元，同比+107.53%，环比+164.23%；实现扣非归母净利润2.91 亿元，同比+14.46%，环比+27.74%。非经常性损益方面，根据《拓荆科技股东减持股份结果公告》，中微公司自2023 年5 月17 日至8 月16 日通过集中竞价的方式减持出售了部分持有的拓荆科技股票，大幅增厚公司2023Q2 的利润。

    　　 公司持续拓展新品类，CCP/ICP 刻蚀、MOCVD、CVD 等多种新产品在客户端加速验证：

    　　1）CCP：公司CCP 刻蚀设备产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线。截至2023 年第二季度，公司累计生产付运超过2500 个CCP 刻蚀反应台。针对28 纳米及以下的逻辑器件生产中广泛采用的一体化大马士革刻蚀工艺，以及应用于存储的配备超低频高功率偏压射频的CCP刻蚀机用于超高深宽比介质刻蚀（≥60:1），这两类设备都已经在客户端开展现场验证，目前进展顺利。

    　　2）ICP：ICP 刻蚀设备中的Primo Nanova 系列产品在客户端安装腔体数近三年实现>100%的年均复合增长。公司预计在先进逻辑芯片、先进DRAM 和3DNAND 的ICP 验证刻蚀工艺覆盖率有望扩展到50%-70%不等。上半年，公司ICP技术设备类中的8 英寸和12 英寸深硅刻蚀设备在12 英寸的3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，并在欧洲客户新建的12 英寸微机电系统芯片产线上获得认证的机会。

    　　3）MOCVD：根据公司2023 年中报，公司累计MOCVD 产品出货量超过500腔，持续保持国际氮化镓基MOCVD 设备市场领先地位。其中Prismo UniMax产品累计出货量已超过120 腔。公司推出用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备Prismo PD5，目前已交付国内外领先客户进行生产验证，并取得重复订单。

    　　公司也启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，目前实验室样机取得初步进展，并于2023 年内交付样机至客户端开展生产验证。

    　　4）CVD：根据公司2023 年中报，公司首台CVD 钨设备于2022 年底付运关键存储客户端验证评估，目前已如期完成多道工艺验证。公司已在短时间内实现多种LPCVD 设备的研发交付以及ALD 设备的重大突破，多款新产品研发项目在快速推进。公司开发的应用于先进存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备也取得重大进展，公司预期在2023 年下半年发往客户端进行量产验证。在现有的金属CVD 和ALD 设备产品基础上，公司计划全面拓展先进金属CVD 和ALD 设备产品市场。此外，目前公司EPI 设备正处于工艺调试和客户验证阶段，以满足客　　户先进制程中锗硅外延生长工艺的电性和可靠性需求。

    　　 产能方面：南昌和临港产能持续扩充，为公司未来发展保障。为扩充资产规模、增强公司实力以持续做大做强主业，公司产业化建设项目正在顺利推进中，根据公司公告，在南昌的约14 万平方米的生产和研发基地已建成完工，并于2023年7 月正式投入使用；公司在上海临港的约18 万平方米的生产和研发基地主体建设已完成，上海临港滴水湖畔约10 万平方米的研发中心暨总部大楼也在顺利建设，为今后的大发展夯实基础，届时比现有厂房大15 倍、总面积约45 万平米的厂房和办公楼将为公司今后的快速发展提供保障。

    　　 风险因素：国际贸易摩擦加剧风险；下游客户扩产不及预期的风险；政府补助与税收优惠政策超预期变动的风险；关键技术人员流失的风险；投资项目的实际效益与预期结果较大差异的风险；技术被赶超或替代的风险。

    　　 盈利预测、估值与评级：伴随着高端新产品及新品类设备的持续推出，预期公司将得益于全球尤其是国内半导体设备需求增加，实现业绩快速提升。考虑到公司今年非经常性损益有较多卖出拓荆科技的收益，我们上调公司2023/24/25年归母净利润预测至17.97/18.99/21.24 亿元（原预测为13.87/18.37/20.98 亿元），对应EPS 预测为2.91/3.07/3.44 元（原预测为2.25/2.98/ 3.40 元）。因为高研发投入，市场对半导体设备企业普遍采用PS 估值，截至2023 年8 月25日，A 股中可比半导体设备公司（北方华创、盛美上海、芯源微、拓荆科技、华海清科、华峰测控）2023 年Wind 一致预期的平均PS 为12 倍。同时我们考虑到当前半导体设备板块的估值处于相对低位，公司近一年的当年PS 倍数在13~25 倍区间波动，均值为18 倍；此外，可比公司北方华创、盛美上海、芯源微、拓荆科技、华海清科、华峰测控的近一年当年PS 估值均值为17 倍。因此我们给予公司2023 年17 倍PS，目标价173 元，维持“买入”评级。