核心观点

    　　2023 年上半年公司营收同比增长28%，其中刻蚀设备、MOCVD设备同比分别增长33%、24%，刻蚀设备增速更高；业绩实现高增，主要系公司出售部分持有拓荆股票。截至2023H1 存货38.1亿元，同比+53.0%，合同负债18.0 亿元，同比+13.2%，预计在手订单持续增长。公司核心产品进展不断，刻蚀设备CCP 竞争力增强，ICP 多个产品进展迅速，预计工艺覆盖率将达到50%-70%；MOCVD 设备保持领先地位，积极开拓新领域；薄膜沉积设备新产品不断突破，全面拓展先进金属CVD 和ALD 设备产品市场。

    　　事件

    　　2023 年上半年，公司实现营业收入25.27 亿元，同比增长28.13%，归母净利润10.03 亿元，同比增长114.40%，扣非后归母净利润5.19 亿元，同比增长17.75%。其中，Q2 单季度实现营业收入13.03亿元，同比增长27.46%，归母净利润7.28 亿元，同比增长107.53%，扣非后归母净利润2.91 亿元，同比增长14.46%。

    　　简评

    　　Q2 业绩符合预期，预计在手订单维持增长

    　　营收稳健增长，利润受益出售拓荆股票大幅增长。营收端，2023H1公司营收25.27 亿元，同比+28.13%，其中Q2 单季度实现营收13.03 亿元，同比+27.46%。营收稳健增长，主要得益于公司拳头产品刻蚀设备市占率不断提升，上半年营收增长32.53%，CCP设备已实现多次批量销售，ICP 设备不断核准更多刻蚀应用，迅速扩大市场并不断得到领先客户的批量订单，另一大主打产品MOCVD 保持领先地位，上半年营收增长24.11%。利润端，上半年归母净利润10.03 亿元，同比+114.40%，扣非后归母净利润5.19亿元，同比+17.75%，毛、净利率分别为45.89%、39.67%，同比分别+0.52pct、+16.01pct，扣非后净利率20.54%，同比-1.81pct；其中Q2 单季度实现归母净利润7.28 亿元，同比+107.53%，扣非后归母净利润2.91 亿元，同比+14.46%，毛、净利率分别为45.90%、55.80%，同比分别+0.63pct、+21.62pct，扣非后净利率22.33%，同比-2.54pct，归母净利润高增主要系上半年公司出售部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约4.06 亿元。

    　　存货、合同负债同比提升，预计在手订单维持增长。截至2023H1 存货38.05 亿元，相比去年同期+52.98%，相比2022 年底+11.85%；合同负债18.05 亿元，相比去年同期+13.20%，相比2022 年底-17.77%。其中合同负债相比2022 年底略有下滑我们推测主要系产品结构变化影响，付款条件更好的MOCVD 设备在订单中比例下降，预计公司在手订单维持良好增长。

    　　核心产品刻蚀与MOCVD 设备竞争力持续提升，薄膜沉积设备加速布局刻蚀设备：CCP 竞争力增强，ICP 进展迅速。2023H1 刻蚀设备收入17.22 亿元，同比+32.53%，毛利率达46.16%，同比+0.11pct。（1）CCP：公司 CCP 设备已对28 nm 以上的绝大部分应用和28nm 及以下的大部分应用形成较为全面的覆盖。截至2023Q2，已累计生产付运超过2500 个CCP 刻蚀反应台。逻辑领域，应用于28nm 及以下的大马士革刻蚀工艺的SD-RIE 进入客户验证阶段，存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力。（2）ICP：公司产品已在50 多个客户的生产线上量产，持续进行更多刻蚀应用的验证。Nanova VE HP 和LUX 新产品推出后，公司未来工艺覆盖率有望扩展到50%-70%，目前VE HP 在DRAM的高深宽比的多晶硅掩膜应用，已在客户产线上认证成功，LUX 也发货至多个客户产线验证。Twin-Star 在海内外客户的逻辑芯片、汽车功率器件 Power Device、微型发光二极管 Micro-LED、AR 眼镜用的超透镜 Meta Lens等特色器件的产线上实现量产并取得重复订单。深硅刻蚀设备在晶圆级先进封装、2.5D 封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单，在12 英寸3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，并在欧洲客户新建的12 英寸微机电系统芯片产线获得认证机会。

    　　MOCVD 设备：保持领先地位，积极开拓新领域。2023H1 MOCVD 设备收入2.99 亿元，同比+24.11%，毛利率达37.90%，同比+2.48pct。公司持续保持国际氮化镓基MOCVD 设备市场领先地位，并开启新领域拓展，针对Micro-LED 应用的专用MOCVD 设备正开发中。公司已启动碳化硅功率器件外延生产设备，后续将与潜在客户合作开展实验室样品测试，并于2023 年内交付样机至客户端验证。

    　　薄膜沉积设备：全面拓展先进金属CVD 和ALD 设备。公司首台CVD 钨设备2022 年底付运关键存储客户端验证评估，如期完成多道工艺验证，更多应用正在验证当中。另外，公司开发了新型号CVD 钨和ALD 钨设备，以实现更高深宽比结构的材料填充，已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试。ALD氮化钛设备也取得重大进展，预期在2023 年下半年发往客户端进行量产验证。