事件：公司发布2 023 年半年度报告。

    　　刻蚀设备持续放量，2023H1 收入端实现稳健增长2023H1 公司实现营业收入25.27 亿元，同比+28%，其中Q2 营收为13.03亿元，同比+27%，延续稳健增长趋势。1）刻蚀设备：2023H1 实现收入17.22亿元，同比+33%。公司刻蚀设备在国内外市场占有率不断提高，CCP 设备在国际最先进的5nm 芯片生产线及下一代更先进的生产线刻蚀设备实现了多次批量销售，同时ICP 设备迅速扩大市场并不断收到领先客户的批量订单。2）MOCVD：2023H1 实现收入2.99 亿元，同比+24%。公司MOCVD 产品在新一代 Mini-LED 产线上继续保持绝对领先的地位。2022 年公司新签订单约63.2亿元，同比+53%。截至2023H1 末，公司合同负债和存货分别达到18.05 和38.05 亿元，分别较2022 年底-18%和+12%，我们判断2023H1 末公司在手订单依旧较为充足。随着订单陆续交付，公司2023H2 收入有望延续高增长。

    　　大额非经常性损益增厚利润空间，2023H1 销售净利率同比+16pct2023H1 公司实现归母净利润10.03 亿元，同比+114%，落于业绩预告中位区间（9.8~10.3 亿元）；其中Q2 归母净利润为7.28 亿元，同比+108%。2023H1公司实现扣非归母净利润5.19 亿元，同比+18%，落于业绩预告中位区间（5.0~5.4 亿元）；其中Q2 扣非归母净利润为2.91 亿元，同比+14%。2023H1销售净利率和扣非销售净利率分别为39.67%和20.54%，分别同比+16.01pct 和-1.81pct。1）毛利端：2023H1 销售毛利率为45.89%，同比+0.53pct，略有增长，其中刻蚀设备、MOCVD 设备毛利率分别达到46.16%和37.90%。2）费用端：2023H1 期间费用率为21.81%，同比-2.03pct，其中销售、管理、财务和研发费用率分别同比-1.03、-4.24、+2.98 和-3.83pct。3）2023H1 非经常性损益为收益4.84 亿元，同比增加约4.57 亿元，明显增厚公司上半年净利润，变动主要系出售处置部分持有的拓荆科技股权产生税后净收益4.06 亿元。

    　　积极持续推进新品研发，先进工艺能力快速突破公司在巩固现有产品竞争优势的同时，积极推进新产品研发，打开市场空间。①CCP 设备：在逻辑领域，已对28nm 以上的绝大部分CCP 刻蚀应用和28nm 及以下的大部分 CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖。在存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60:1 深宽比结构的能力。②ICP设备：Primo nanova ICP 刻蚀产品已在超过20 家客户生产线上进行100 多个ICP 刻蚀工艺的验证，工艺覆盖3D NAND、DRAM 和逻辑芯片，并持续获得国际先进3D NAND 客户批量订单。③MOCVD 设备：积极布局第三代半导体设备，开发GaN 功率器件量产应用的MOCVD 设备，已在国内外领先客户产线进行验证并获得重复订单。④薄膜沉积设备：公司首台 CVD 钨设备2022底付运关键存储客户端验证评估，目前验证进展顺利；公司开发的应用于先进存储和逻辑器件的 ALD 氮化钛设备也取得重大进展，预期在2023H2 发往客户端进行量产验证。此外，公司 EPI 设备也进入工艺调试和客户验证阶段。

    　　⑤量测设备：公司参股睿励科学，布局前道量/检测设备，持续提升持股比例。

    　　在产能方面，2021 年公司连续启动南昌、临港产业基地、临港研发暨总部等建设项目，随着产能加速释放，为公司中长期增长奠定基础。

    　　盈利预测与投资评级：考虑到公司存在大额投资净收益，我们调整2023-2025年归母净利润预测分别为18.85、19.94 和25.54 亿元（原值15.24、19.31 和24.64 亿元），当前市值对应动态PE 分别为43、40、32 倍。基于公司的高成长性，维持“买入”评级。

    　　风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。