1H23 业绩符合我们预期

    　　公司公布1H23 业绩：公司实现收入25.27 亿元，同比增长28.13%；归母净利润10.03 亿元，同比增长约114.40%，扣非归母净利润5.19 亿元，同比增长17.75%，符合我们预期。

    　　发展趋势

    　　刻蚀设备保持快速增长，合同负债有所下滑。1H23 公司实现收入25.27 亿元，同比增长28.13%，其中公司刻蚀设备实现收入17.22 亿元，同比增长32.53%，MOCVD 实现收入2.99 亿元，同比增长24.11%。毛利率方面，1H23 刻蚀设备毛利率达46.16%，MOCVD 设备毛利率达37.9%。2Q23公司实现归母净利润7.28 亿元，其中由于公司出售了部分持有的拓荆科技公司股票，产生税后净收益约 4.06 亿元。2Q23 公司实现扣非归母净利润2.91 亿元，扣非归母净利润率达22.3%，环比提升3.7ppt。公司合同负债为18.05 亿元，较1Q23 末23.2 亿元下滑22.2%。

    　　刻蚀设备工艺覆盖度持续提升：截至2Q23，公司CCP 刻蚀设备已累计生产付运超2500 个反应台，已有产品对28nm 以上大部分CCP 刻蚀应用和28nm 及以下刻蚀应用已形成全面的覆盖，针对28nm 及以下的一体化大马士革刻蚀工艺已进入客户验证阶段，在存储领域公司开发的超高深宽比刻蚀机已验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力；公司ICP 刻蚀设备在先进逻辑芯片、先进DRAM 和3D NAND 的刻蚀工艺覆盖度扩展至50-70%，同时在DRAM 中高深宽比的多晶硅掩膜应用上在客户的产线上认证成功。

    　　薄膜设备持续推进研发，产品线有望进一步拓宽：公司钨CVD 设备目前已如期完成多道工艺验证，同时开发新型号CVD 钨和ALD 钨设备来实现更高深宽比结构的材料填充，首台量产验证机已在客户端进行测试，同时公司预计氮化钛ALD 设备于2023 年下半年发往客户端量产验证。此外，公司EPI 设备也已处于工艺调试和客户端验证阶段，我们认为随着公司产品线进一步拓宽，未来有望在CVD、ALD、EPI 等领域销售收入快速增长。

    　　盈利预测与估值

    　　我们维持公司盈利预测不变，预计2023/2024 年公司实现营业收入67.38/89.49 亿元，同比增长42.2%/32.8%，实现归母净利润13.75/17.98亿元，同比增长17.5%/30.8%，当前股价对应2023/2024 年60.2/46xP/E，我们采用远期P/E 法对公司进行估值，由于半导体行业估值中枢下行，我们下调远期2026 年P/E 至35x，下修目标价12.6%至173 元，对应2024 年59.5xP/E，较当前股价仍有29.3%上行空间，维持跑赢行业评级。

    　　风险

    　　晶圆厂资本开支下滑，新产品研发验证不及预期，零部件供应风险。