投资要点：

    　　事件：公司发布2023 年中报，1H23 营收25.3 亿，同比增长28.1%；毛利率45.89%，同比增长0.53pct；扣非归母净利润5.2 亿，同比增长17.8%；归母净利润10.0 亿，同比增长114.4%，归母净利润超市场预期。

    　　刻蚀设备营业收入同比增速超30%。1H23 公司刻蚀设备收入17.2 亿，同比增长32.5%，占总营业收入比例约68%，为公司业绩增长核心驱动。刻蚀设备是半导体制造产业链价值量最高环节（占比约22%），市场空间巨大。1H23 公司刻蚀设备关键客户市场占有率持续提高，未来国内市场市占率预将进一步提升，同时国内晶圆厂持续扩产，并且先进制程方面公司CCP 刻蚀设备装机量持续扩张，超过200 台设备进入5 纳米及以下产线，ICP设备推出Nanova VE HP 和Nanova LUX 提升工艺覆盖率，预计全年营收维持高增。

    　　推进极高深宽比、大马士革刻蚀工艺研发，引领先进工艺突破。公司已完成60:1 深宽比刻蚀设备研发，新机型已获得下游客户认可，预计将尽快投入量产，预将提升存储等国内下游客户订单份额；同时公司将推出一体化大马士革工艺刻蚀设备，该领域此前由日本厂商垄断，公司若实现技术突破将获取更大市场空间。

    　　MOCVD 设备亦维持成长，南昌新厂落成产能将进一步扩张。MOCVD 设备收入3.0 亿，同比增长24.1%，占总营业收入比例约12%，主要受益于下游mini LED 市场扩张，7 月7 日中微公司南昌新厂落成投入使用，预计MOCVD 设备产能将明显提升。备品备件及服务收入5.1 亿，同比增长17.1%，占总营业收入比例约20%，伴随公司整体装机量提升而稳步增长。

    　　非经常性收益高增主因出售股票获利。归母净利润高增主因中微公司上半年处置部分所持有的拓荆科技股票产生税后收益4.06 亿。公司2Q23 发布LPCVD 新产品钨沉积设备，后续预将推出EPI、ALD 设备，薄膜沉积设备有望形成新成长极。

    　　投资分析意见：上调归母净利润预测，维持“买入”评级。预计公司CCP 刻蚀设备国产化率持续提升、ICP 刻蚀设备快速放量，MOCVD 伴随下游显示面板市场规模扩张营收稳步增长。预计2023~2025 年公司营业收入分别为63、82、104 亿元，同比增速分别为33.3%、30.4%、25.6%，对应动态PS 分别为13x、10x、8x。考虑到公司上半年非经常性损益较高，上调2023 年归母净利润预测至18.0 亿元（原预测14.1 亿元）。

    　　风险提示：需求低于预期影响晶圆厂扩产节奏；设备验证结果不达预期；原材料采购周期延长风险。