中微公司发布2023 半年报业绩预告，预计收入25.27 亿元，同比+28%；扣非归母净利润5-5.4 亿元，同比+13.5%-22.5%。公司刻蚀设备市占率不断提升，23Q2 收入同环比均实现增长，维持“增持”投资评级。

    　　23H1 收入和业绩同比稳健增长，23Q2 营收环比实现增长。23H1 预计收入25.27 亿元，同比+28%；归母净利润9.8-10.3 亿元，同比+109.5%-120.2%；扣非归母净利润5-5.4 亿元，同比+13.5%-22.5%；23Q2 收入预计13 亿元，同比+27.5%/环比+6.6%；归母净利润7.05-7.55 亿元，同比+101%-115%/环比+156%-174%；扣非归母净利润2.72-3.12 亿元，同比+7%-22.8%/环比+19.4%-37%，非经常收益主要系23Q2 出售部分拓荆股票带来的4.06 亿元收益；单季扣非净利率20.9%，同比约-2.5pcts/环比+4pcts。

    　　23Q2 刻蚀设备收入稳健增长，MOCVD 设备收入同环比承压。从收入拆分来看，①刻蚀设备：23H1 收入17.22 亿元，同比+32.5%，主要系市占率不断提高；23Q2 收入9.08 亿元，同比+55.2%/环比+11.5%；②MOCVD 设备：

    　　23H1 收入2.99 亿元，同比+24.1%；23Q2 收入1.32 亿元，同比-33.7%/环比-21%；③备品备件及服务收入5.05 亿元，同比+17.1%。

    　　日本发布半导体设备出口管制法规，刻蚀设备国产化率有望持续加速。日本政府修正法案于5 月23 日公布，预计7 月23 日正式实施，对光刻、刻蚀、沉积、清洗、热处理、测试共六大类设备进行限制，对刻蚀和薄膜沉积设备限制较多，主要针对刻蚀深宽比、选择比进行限制，以及对金属沉积、介质薄膜的介电常数/反应温度/介质材料等进行限制；日本TEL 等在刻蚀领域具备一定市场份额，根据中国海关，2022 年中国大陆等离子刻蚀设备进口金额37.5 亿美元，日本占比31%。因此，我们认为刻蚀设备国产化进程有望加速，公司有望在国内先进逻辑和存储产线获取可观市场份额。

    　　大马士革和极高深宽比工艺刻蚀机台验证顺利，持续向LPCVD、外延、检测等领域延伸。针对大马士革工艺，公司开发了可调节电极间距的刻蚀机，同时满足通孔和沟槽刻蚀的不同工艺要求；针对极高深宽比工艺，公司自主开发极高深宽比刻蚀机，使用400KHz 取代2MHz 作为偏压射频源，从而获得更高的离子入射能量和准直性，目前两款机台均验证顺利；在薄膜领域，公司于5 月发布自研12 英寸LPCVD 设备，用于先进逻辑器件、DRAM 和3DNAND 中接触孔以及金属钨线等的填充，目前顺利导入客户端进行生产核准；在外延领域，公司正开发EPI 外延设备，面向28nm 以下逻辑、存储和功率器件，目前研发顺利，进入样机制造和调试阶段；在检测领域，上海睿励主营工艺检测设备，中微公司此前持股34.75%，为第一大股东。2023 年4 月3 日，大基金将持有的上海睿励6.76%的股权在上交所挂牌交易，中微于4月28 日竞购成功，加强向检测设备的产业链延伸。

    　　投资建议。公司23H1 收入和业绩同比稳健增长，刻蚀设备市占率不断提升，在薄膜沉积领域有所突破，并加大检测设备布局力度。未来伴随公司工艺覆盖度提升，其市场份额有望进一步提高。我们预计公司2023/2024/2025 年收入为55.5/65.4/75.3 亿元，对应PS 为16.1/13.6/11.9 倍，考虑到公司上半年出售拓荆科技股票产生的非经常性损益较多，因此小幅上修2023 年归母净利润至14.8 亿元，预计2024/2025 年归母净利润为15.0/18.0 亿元，对应PE为60.3/59.4/49.5 倍。维持“增持”投资评级。

    　　风险提示：下游晶圆厂扩产不及预期，美国半导体设备出口管制加剧，新品研发不及预期，行业竞争加剧的风险。