业绩持续增长：22 年营收同比增长53%至47.4 亿元，扣非归母净利润增长183%至9.2 亿元，新签订单增长53%达63.2 亿元。22 年公司研发投入增长 28%达9.3 亿元，占收入比例为 20%。截至22 年底公司共有超过3311 个反应台在客户106 条芯片生产线全面量产。23Q1 营收同比增长29%至12.2 亿元，归母净利润同比增长135%至2.8 亿元，业绩依旧亮眼。

    刻蚀设备扩大优势：23Q1 刻蚀设备收入为8.1 亿元，同比增长14%，毛利率47.3%。CCP 刻蚀设备：在国际最先进的5 纳米芯片生产线及下一代更先进的生产线上，公司CCP 刻蚀设备实现了多次批量销售，已有超过200 台反应台在生产线合格运转。用于先进逻辑器件的双反应台刻蚀机实现多次批量销售，用于逻辑器件大马士革刻蚀及用于极高深宽比存储应用的刻蚀机开发进展顺利，将陆续进入市场。

    ICP 刻蚀设备：22 年实现了100 多个刻蚀工艺的量产，单台机系列产品安装腔体数已达到 297 台，双台机实现量产并取得重复订单。

    MOCVD 应用领域不断延伸：23Q1 公司MOCVD 设备收入同比增长300%至1.7 亿元，毛利率40.1%。截止22 年底，累计MOCVD 出货量超过500 腔。公司保持氮化镓基MOCVD 市场领先地位，在 Mini-LED 显示外延片设备领域国际领先，针对Micro-LED 应用的专用 MOCVD 设备正在开发。碳化硅功率器件外延设备今年将交付样机至客户端开展生产验证，产品线进一步丰富。

    薄膜沉积和量测设备可期：首台CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估，EPI设备已进入样机的制造和调试阶段，应用于高端存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备已进入实验室测试阶段。公司通过投资睿励34.8%股权布局前道量/检测领域，近期公告将增持睿励6.8%股权，光学检测设备22 年市场规模825 亿元，仅次于光刻、薄膜和刻蚀设备，未来前景广阔。

    我们预测公司2023-2025 年归母净利润分别为15.1、19.9、25.5 亿元（原23-24 年预测分别为14.0、19.6 亿元，主要上调了刻蚀设备、MOCVD 的营收和毛利率），采用绝对估值法（FCFF），给予238.44 元目标价，维持买入评级。

    风险提示

    大基金等股东减持；刻蚀设备国产化不及预期；MiniLED 需求不及预期；政府补助下滑风险；零部件断供风险。