主要观点

    中微公司作为国内刻蚀设备和MOCVD 设备头部企业，2022 年营收增长52.50%，继续保持近两年营收的加速增长，我们认为公司仍有充足的市场空间和技术实力持续增长。

    半导体设备国产化率持续提升，核心设备需求将继续增长

    根据芯谋研究数据显示，2022 年国产半导体设备销售额约43 亿美元左右，国产化率首次突破10%，达到12%。预计2023 年国产半导体设备销售额将达到62 亿美元，国产化率约16%。我们认为中微公司刻蚀设备和MOCVD 设备作为半导体生产中的核心设备，将充分受益于设备国产化的进程。

    刻蚀设备国内领先，存储等技术迭代刺激需求放量根据公司年报，刻蚀设备在前道设备中增速和价值量都位居头位，公司CCP 设备2022 年生产交付量增速超五成。相关文献显示，刻蚀设备在3D 存储、先进制程、先进封装中都有非常重要的作用，尤其在3D 存储领域，随着层数增加，刻蚀设备需求量不断提升，根据International business strategies 数据显示，3D 存储将快速取代2D 存储。我们认为随着存储市场规模增长和3D 存储技术的升级迭代，对刻蚀设备将会产生叠加的需求刺激。

    MOCVD 设备不断升级拓展，薄膜沉积设备快速突破。

    根据公司年报，中微累计付运MOCVD 设备超500 腔，过去六年年复合增速超35%，在氮化镓基MOCVD 设备上国际领先。MOCVD 设备在五大应用领域升级拓展，所对应的市场如MLED、第三代半导体等均在快速增长，我们认为MOCVD 设备同样会迎来持续的需求增长。

    薄膜沉积设备18 个月快速突破研发交付，我们认为作为高价值量的薄膜沉积市场将成为中微公司又一业绩增长点。

    投资建议：

    我们认为中微公司未来增长有两个核心驱动力，一是设备国产化的趋势下，国产设备市场需求在增长，中微公司作为国产设备的头部企业，提供半导体前道制作的核心产品，有望将重点受益；二是中微公司的核心产品对应着3D 存储、先进封装、第三代半导体等增长更块的领域，市场需求端传导的增量也是未来增长的强大助力，公司也在积极布局用于存储等应用的技术升级。公司所对应市场空间依然十分充足，有望保持增长态势。

    1.刻蚀设备

    根据公司年报，2022 年公司刻蚀设备销售量同比增长达51.03%，刻蚀设备在3D 存储和先进制程、先进封装中需求量增大，我们认为在技术发展的趋势下未来有明确的需求增量。根据中微公司的信息，目前其刻蚀设备在国内先进的存储、逻辑产线中占比仍有较大提升空间。刻蚀设备在半导体前道设备中价值量和增速处于头位，我们认为中微公司刻蚀设备因需求增速快、市场空间大、设备重要性高三大支撑，在未来仍将保持强劲的增长态势。

    2.MOCVD 设备

    根据公司年报，氮化镓基MOCVD 设备国际领先，中微公司MOCVD基于五大应用领域不同升级与拓展相应产品。MOCVD 对应的MLED与化合物半导体外延等市场投资增长快，公司在这些领域均有布局，我们认为作为中微公司另一核心产品，MOCVD 同样会借助下游应用需求的快速增长和设备国产化率的提升，实现保持长期的增长势头。

    3.薄膜沉积设备

    根据公司年报，薄膜沉积设备与刻蚀设备占据半导体前道设备价值量和增速的前两位。公司仅用18 个月快速研发突破W CVD 设备，我们认为薄膜沉积设备广阔的市场空间和中微公司在客户的口碑，薄膜沉积设备有望成为中微公司未来重要的业绩增长点。

    考虑到公司持续的高速增长与充足的市场空间，我们上调公司2023 年营收56.82 亿元的预测至61.62 亿元，上调 2023 年 EPS1.51 元的预测至2.29 元。预计公司2024 年-2025 年分别实现收入为80.10 亿元和100.13 亿元，分别实现归母净利润为18.20亿元和22.05 亿元，对应EPS 分别为2.95 元和3.58 元，对应2023 年4 月10 日收盘价175.08 元/股，2023 年-2025 年PE 分别为77 倍、59 倍、49 倍，维持公司“买入”评级。

    风险提示

    国际贸易摩擦加剧；下游需求不及预期；公司技术研发不及预期；行业竞争加剧；半导体行业周期性波动风险。