事件描述

    　　公司披露2022 年年报。2022 年公司实现营业收入47.4 亿元，同比+52.5%；归母净利润11.7 亿元，同比+15.7%；扣非净利润9.2 亿元，同比+183.44%。归母净利增长较慢，主要是因为非经常损益同比减少，其中，政府补助同比减少1.6 亿元，股权投资产生的公允价值变动收益等减少约3.4亿元。22Q4 实现营业收入17 亿元，同比+63.9%；实现归母净利润3.8 亿元，同比-19.8%。

    　　事件点评

    　　核心设备均达到国际先进水平，市场份额不断提升。（1）刻蚀设备实现收入31.5 亿元，yoy+57.1%。CCP 设备，2022 年共交付475 个CCP 刻蚀反应腔，yoy+59.4%；CCP 设备超200 台进入5 纳米及以下生产线；同时，公司对逻辑器件的大马士革刻蚀工艺和存储器件的极高深宽比刻蚀技术进展良好。ICP 设备，在超过20 个客户的逻辑、DRAM 和3D NAND 等器件的生产线上进行超过100 多个ICP 刻蚀工艺的量产；Nanova 单台机订单年增长超100%，截止2022 年底，Primo Nanova系列产品在客户端安装腔体数已达到297 台。（2）MOCVD 设备实现收入7.0 亿元，yoy+39.1%。在国内外氮化镓基LED 市场占主导地位。截止2022 年末，公司累计3311 台等离子刻蚀和化学薄膜的反应台在客户106 条芯片生产线全面量产，包括2320台CCP，460 台ICP，531 台MOCVD，较2021 年末增长40.2%。

    　　核心设备毛利率同比提升，新品开发进展顺利。2022 年，公司毛利率45.7%，yoy+2.4pct；其中，刻蚀设备/MOCVD 设备毛利率分别为47.0%/37.0%，同比分别增长2.7pct/3.2pct。公司期间费用率合计23.2%，同比-3.4pct；净利率24.6%，同比-7.9pct，主要系非经常性损益减少所致。2022 年，公司研发投入9.3 亿元，yoy+27.6%，占收入比例为19.6%；研发人员592 人，占比达42.9%。在刻蚀设备上，开发新型CCP、ICP 设备，满足新一代逻辑芯片和高密度存储DRAM 和3D NAND 芯片的不同刻蚀需求。在薄膜沉积设备上，LPCVD 样机已经通过关键客户工艺验证，正积极推进量产线验证；EPI 设备，已进入样机制造和调试阶段；ALD 钨设备，目前已开始实验室测试同时和关键客户开始对接验证，ALD 氮化钛设备进入实验室测试阶段。针对第三代半导体设备，公司重点开发Micro-LED 专用MOCVD 设备，以及硅基氮化镓及碳化硅功率器件专用的外延设备。

    　　新签订单保障业绩增长，产能建设顺利进行。2022 年新签订单63.2 亿元，同比+53.0%，形成有效业绩支撑。目前产能建设顺利推进，中微临港产　　业化基地（18 万平方米）主体建设已完成，2023 年将部分投入使用；中微南昌（14 万平方米）生产和研发基地基本建成完工，部分生产洁净室于2022年7 月投入试生产；中微临港总部和研发基地（10 万平方米）正常进行施工中。未来2 年，公司产房和办公楼面积将达到45 万平方米，比现有厂房面积大15 倍。

    　　投资建议

    　　预计公司2023-2025 年归母净利润分别为14.3\18.1\21.5 亿元，同比分别增长22.6%/26.1%/19.1%，对应EPS 分别为2.33\2.93\3.49 元，对应PE 分别为72.4\57.4\48.2 倍。首次覆盖，给予“买入-A”的投资评级。

    　　风险提示

    　　行业周期波动的风险，下游扩产不及预期的风险，研发进展不及预期的风险，关键技术人员流失的风险。