事件概述：3 月30 日，中微公司发布2022 年报。公司4Q22 单季度实现收入16.97 亿元，同比增长63.88%；实现归母净利润3.77 亿元，同比下降19.75%；实现扣非净利润2.76 亿元，同比增长72.79%。

    　　收入稳健增长，盈利再创新高。得益于半导体设备国产化推进，公司刻蚀设备份额持续提升，2022 年公司收入增长52.5%，达到47.40 亿元，Q4 单季度实现收入16.97 亿元，同比增长63.88%，环比增长58.45%。利润端，4Q22 毛利率达到46.15%创下新高，同比提升1.4 pct，环比提升0.4 pct。4Q22 单季度实现归母净利润3.77 亿元，同比下降19.75%，主要因为2021 年同期有较高的公允价值收益和投资收益。4Q22 实现扣非净利润2.76 亿元，同比增长72.79%。

    　　订单方面，公司依旧维持了较高的订单增速，2022 全年新签订单63.2 亿元，同比增长53.0%，对应Q4 单季度新签订单6.8 亿元，同比增长11.4%。

    　　刻蚀主业份额持续提升，突破先进制程。作为国内刻蚀设备龙头，公司在维持CCP 刻蚀领先地位，市场占有率不断提升，同时ICP 刻蚀亦实现收入放量。

    　　2022 年公司刻蚀设备收入31.47 亿元，同比增长57.1%，毛利率达47.0%，同比提升2.7 pct。于此同时，公司刻蚀设备不断突破先进制程工艺，在国际领先的5nm 及以下生产线上，公司CCP 刻蚀设备存量超过200 台反应台，市占率约11%。在逻辑芯片工艺中，公司推出大马士革刻蚀设备，在存储器工艺中，公司推出极高深宽比刻蚀机，均即将完成推向市场。

    　　多种薄膜设备新品蓄势待发。除了刻蚀主业的强劲增长表现，公司亦布局了多款薄膜设备新品，部分产品已进入客户验证阶段。

    　　1）LPCVD：公司钨填充PCVD 设备已经完成稳定性测试和客户测验证，并在开发新型号CVD 设备以实现更高深宽比填充。

    　　2）ALD：用于高端存储和逻辑器件的氮化钛薄膜ALD 设备已在实验室验证阶段，ALD 钨设备已在关键客户对接验证。

    　　3）EPI：用于28nm 以下制程锗硅外延生长工艺的EPI 设备研发顺利，已进入样机制造和调试阶段。

    　　4）MOCVD：制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD 设备已交付国内外客户并获得重复订单；用于碳化硅功率器件应用的外延设备也正在开发中，2023 年将交付样机至客户端开展生产验证。

    　　投资建议：我们预计公司2023-2025 年营收分别为62.93/81.20/104.82亿元，归母净利润14.47/18.73/24.39 亿元，对应现价PE 分别为70/54/41 倍，看好公司在半导体设备国产化进程中的领先优势，维持“推荐”评级。

    　　风险提示：产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。