2022 年扣非净利润高速增长，在手订单充足，维持“买入”评级2023 年3 月30 日，公司发布2022 年年报，2022 年实现营收47.40 亿元，同比+52.50%；归母净利润11.70 亿元，同比+15.66%；扣非净利润9.19 亿元，同比+183.44%；毛利率45.74%，同比+2.38pcts。计算得2022Q4 单季度实现营收16.97亿元，同比+63.88%，环比+58.39%；归母净利润3.77 亿元，同比-19.75%，环比+15.88%；扣非净利润2.76 亿元，同比+72.79%，环比+35.60%。截止2022 年底，公司合同负债21.95 亿元，相比2022Q3+2.26 亿元，在手订单高增。我们上调2023-2024 年业绩预测并新增2025 年业绩预测，预计2023-2025 年归母净利润为13.84（+0.24）/17.37（+1.23）/21.46 亿元，对应EPS 为2.25（+0.04）/2.82（+0.20）/3.48 元，当前股价对应PE 为62.3/49.7/40.2 倍，维持“买入”评级。

    产品持续升级打开增长空间，股权激励显示增长信心截止2022 年底，公司有3311 个反应台在86 家客户的106 条产线全面量产，2022年累积装机台数增长超40%。CCP，公司2022 年共运付475 个CCP 刻蚀反应腔，同比+59.40%，在逻辑方面实现5nm 芯片生产线的多次批量销售，在存储方面通过多个动态存储器验证，取得重复订单。ICP，公司推出用于高深宽比结构刻蚀的两种单台机设备，特色器件市场的双台机设备，丰富产品的同时，形成完整的单台和双台刻蚀设备布局，同时深硅刻蚀设备在300mm 的3D 芯片的硅通孔工艺实现成功验证。MOCVD 方面，截止2022 年底，公司累计的MOCVD 产品出货量超500 腔，持续保持国际氮化镓基MOCVD 市场领先地位，同时布局功率器件应用的第三代半导体设备市场，推出用于氮化镓功率器件的设备已交付国内外领先客户生产验证，并取得重复订单。薄膜沉积设备方面，公司首台CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估，新型号的CVD 钨和ALD 钨设备已开始和关键客户对接验证。同时公司发布限制性股权激励方案，计划向99%员工以50 元价格授予550 万股，归属条件为以2022 年为基数，2023-2026 年各年累计营收增速高于同期全球销售额前五半导体设备商的累计营收增速平均数。

    风险提示：行业需求下降风险；行业竞争加剧风险；技术研发不及预期。