事件：

    　　2022 年8 月11 日，公司发布2022 年半年度报告：公司2022H1 营业收入为19.72亿元，同比增长47.30%；归母净利润为4.68 亿元，同比增长17.94%；扣非归母净利润为4.41 亿元，同比增长615.26%；毛利率为45.36%，同比增长3.03pcts；净利率为23.66%，同比减少5.96pcts。

    　　公司2022Q2 营业收入为10.23 亿元，单季环比增长7.74%，单季同比增长39.08%；归母净利润为3.51 亿元，单季环比增长199.18%，单季同比增长35.44%；扣非归母净利润为2.54 亿元，单季环比增长36.41%，单季同比增长403.47%；毛利率为45.27%，单季同比增长1.76pcts；净利率为34.18%，单季同比减少1.02pcts。

    　　点评：

    　　22H1 公司ICP 刻蚀设备收入+414%，新增订单量+62%，实现高速增长。

    　　公司22H1 营收同比+47.3%，主要系公司持续加大研发投入和业务开拓力度，等离子体刻蚀设备及MOCVD 设备等核心业务保持了高速和稳定的增长。

    　　公司22H1 扣非归母净利润同比+615.3%，主要系营收和毛利同比均有大幅增长。

    　　公司22H1 归母净利润同比+17.9%，主要系：（1）扣非净利润增加3.79 亿；（2）非经常性损益减少3.08 亿，变动包括政府补助减少2.03 亿以及股权投资收益减少1.77 亿（持有中芯国际和天岳先进股票价格下降）。

    　　分业务来看：ICP 刻蚀设备收入同比+414%，实现高速增长。公司22H1 刻蚀设备收入为12.99 亿元，同比+51.5%，毛利率达到46.05%，其中CCP 刻蚀设备收入8.86 亿元，同比+14.0%，ICP 刻蚀设备收入4.13 亿元，同比+414.1%；公司22H1MOCVD设备收入为2.41 亿元，同比+9.9%，毛利率达到35.42%，同比+4.65%。

    　　从订单情况来看：新增订单同比+61.8%，合同负债环比+6.3%，存货环比+18.7%。

    　　公司22H1 新签订单金额达30.57 亿元，同比+61.8%；合同负债为15.94 亿元，环比+6.3%；存货为24.87 亿元，环比+18.7%。

    　　刻蚀设备：CCP 刻蚀设备持续提升市场率，ICP 刻蚀设备出货量保持高速增长。

    　　CCP 刻蚀机：公司CCP 刻蚀设备持续提升市场占有率，在部分客户市占率已进入前三位。在先进逻辑电路方面，成功取得5 纳米及以下的重复订单。在存储电路方面，在64 层、128 层及更高层数3DNAND 的生产线得到广泛应用，并积极布局在动态存储器的应用，已经取得客户批量订单。公司去年推出首台用于8 英寸晶圆加工的CCP 刻蚀设备，在国内多家客户已累计收到超过30 腔订单。

    　　ICP 刻蚀机：公司ICP 刻蚀设备产品出货量保持高速增长。Primo nanova刻蚀产品已经在超过15 家客户的生产线上进行100 多个ICP 刻蚀工艺的验证，工艺覆盖3DNAND 芯片、DRAM 芯片及逻辑芯片，截止到2022 年6 月底，已经顺利交付超过220 台反应腔，持续取得国际先进3DNAND 客户批量订单。Primo Twin-Star

    　　刻蚀设备订单数量持续增加，已进入更多客户端进行验证。深硅刻蚀设备Primo TSV200E和300E在先进系统封装、2.5 维封装和微机电系统芯片生产线等成熟刻蚀市场继续获得重复订单的同时，也在3D 芯片等新兴市场得到验证。

    　　MOCVD 设备：收入稳步增长，Micro LED 及第三代半导体有望带来新的业绩增量。公司蓝光照明 Prismo A7以及深紫外 LED 外延片 Prismo HiT3产品持续服务客户，用于高性能 Mini LED 量产的Prismo UniMax产品已累计收到来自国内多家领先客户的批量订单合计 180 腔。同时，公司也正在开发针对Micro LED 应用的专用设备，还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备市场，开发氮化镓功率器件量产应用的 MOCVD 设备，目前已交付国内外领先客户进行生产验证。此外，公司启动了应用于碳化硅功率器件专用设备的开发。

    　　薄膜沉积设备：钨填充CVD 设备获得了阶段性进展，CVD、ALD 和EPI 设备开发稳步推进中。公司的钨填充CVD 设备获得了阶段性进展，能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用，以及64 层、128 层和200 层以上3D NAND 中的多个关键应用，目前已通过关键客户的工艺验证，积极推进量产验证中。基于金属钨CVD 设备，公司正进一步开发CVD 和原子层沉积设备。公司外延设备（EPI）研发进展顺利，已进入样机的制造和调试阶段，面向28 纳米及以下的逻辑器件、存储器件和功率器件等的广泛应用，满足先进制程中锗硅外延工艺需求。

    　　VOC 净化设备与德国 DAS 签订战略合作协议。子公司中微惠创利用分子筛的吸附原理的化学反应器，开发制造了工业用大型 VOC 净化设备，已与德国 DAS环境专家有限公司签订战略合作协议，双方在半导体行业尾气处理设备领域展开紧密的合作，共同推动环保科技行业的发展。

    　　盈利预测、估值与评级：中微公司是国内刻蚀设备和MOCVD 设备的领军企业，我们持续看好公司雄厚的内生技术实力以及外延扩展能力，维持公司2022 年的归母净利润为10.73 亿元，考虑到ICP 刻蚀机和薄膜沉积设备进展迅速，上调2023-2024 年的归母净利润为14.06 亿元（上调10.5%）、18.67 亿元（上调21.2%），当前市值对应的PE 值分别为84x、64x 和48x，维持“买入”评级。

    　　风险提示：晶圆厂扩张不及预期，客户导入不及预期，技术研发不及预期。