中微公司2022H1 营业收入约19.72 亿元，同比+47.3%，保持高速增长；毛利率45.36%，同比+3.02pcts，盈利能力显著提升。未来两年，公司将陆续建成相当于现在规模十五倍大的厂房，我们预期将带来更大的增长机会。考虑到公司依然处于快速成长期，我们维持公司2022 年营收预测45.72 亿元，给予其2022 年22 倍PS，得出目标市值1006 亿元，对应目标价163 元，维持“买入”评级

    上半年来看：公司产品订单及营业收入保持高速增长，盈利能力显著提升。公司2022 年上半年营业收入约19.72 亿元，同比+47.3%；上半年新签订单金额达30.57 亿元，同比约+61.83%。公司继续保持近十年营业收入高于35%的年平均增长率的态势，主要系公司等离子体刻蚀设备及MOCVD 设备等核心业务收入实现了快速增长。2022H1 公司归母净利润约4.68 亿元，同比+17.94%；扣非归母净利润4.41 亿元，同比+615.26%；毛利率45.36%，同比+3.02pcts，主要系上半年营业收入和毛利同比均大幅增长。归母净利润中非经常性损益同比减少3.08 亿元，包括计入非经常经损益的政府补助同比减少约2.03 亿元；公司因股权投资产生的公允价值变动收益同比减少约1.77 亿元，主要由于公司持有的中芯国际和天岳先进的股票价格有所下降。

    季度来看：营收同比+39%，净利润同比+35%，业绩未受疫情影响。公司2022Q2营收10.23 亿元，同比+39.08%，环比+7.75%；归母净利润为3.51 亿元，同比+35.44%，环比+199.15%；毛利率为45.27%，同比+1.77pcts，环比-0.2pct。

    得益于持续推出新产品及积极进行客户拓展，公司获得众多客户的批量订单，二季度营收同比稳定增加。在上海疫情期间，公司采取了防疫应急措施，坚持“封控不停产，营运零感染”，在政府相关部门的支持和公司的努力下，公司生产运营基本正常，克服了新冠疫情带来的不利影响。

    等离子体刻蚀设备：2022H1 公司刻蚀设备收入12.99 亿元，同比+51.48%，毛利率46.05%，同比+1.76pcts。（1）CCP 刻蚀设备上半年收入8.86 亿元，同比+13.98%。公司的CCP 电容性高能等离子体刻蚀设备持续得到客户的批量订单，市场占有率不断提升，在一些主要客户的生产线上已达到30%甚至更高的市占率。上半年，CCP 产品正应用在国际一流的5 纳米晶圆生产线的部分刻蚀工艺中，并在5 纳米以下的器件试生产上取得进展。（2）ICP 刻蚀设备上半年收入4.13 亿元，同比+414.08%。公司的ICP 电感性低能等离子体刻蚀设备刻蚀线宽均匀性已达到1σ 0.25 纳米的水平，在进入市场三年后已打下坚实的基础，不断地核准更多的刻蚀应用，年销售额以超过100%的速度持续增长。经公司测算，目前刻蚀机的全球市场规模超过1400 亿元，国内市场规模约350 亿元，公司产品可以覆盖绝大多数的刻蚀应用。

    MOCVD 设备：2022H1 公司MOCVD 设备收入2.41 亿元，同比+9.90%；毛利率35.42%，同比+4.65pcts。公司的MOCVD 设备能实现单腔14 片4 英寸和单腔34 片4 英寸外延片加工能力，在制造氮化镓基LED 的关键设备MOCVD设备领域，公司在国内和国际市场已获得无可争议的领先地位。公司新开发的制造Mini-LED 蓝光和绿光器件的MOCVD 设备达到了单腔41 片4 英寸外延芯片加工能力，发光波长的均匀性达到1σ 0.8 纳米水平，2022 年上半年获得多家客户的大批量订单。此外，公司所开发的钨沉积设备具有优秀的阶梯覆盖率和填充能力，能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用，以及64 层、128 层和200层以上3D NAND 中的多个关键应用，目前已通过关键客户的工艺验证，并积极推进设备在客户产线进行量产验证。

    销量方面：截至2022 年6 月底，公司设备累计付运台数达2654 个反应台，在 客户73 条生产线全面量产。公司目前订单情况饱满，2022H1 新签订单达30.57亿元，接近2021 年全年营收（31.1 亿元）。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65 纳米到14 纳米、7 纳米和5 纳米及更先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线上，其中5 纳米及更先进刻蚀设备目前已获得行业领先客户的批量订单；MOCVD 设备已经在行业领先客户的生产线上大规模量产，其中用于Mini LED 生产的MOCVD 设备Prismo UniMax 已应用在在领先客户端的产线中，并取得180 台的客户订单。

    产能方面：未来两年，公司将陆续建成相当于现在规模十五倍大的厂房。为了确保今后十到十五年的高速发展，公司正在进行三个重大项目建设。在南昌的约14 万平方米生产和研发基地已部分完工，部分生产洁净室于2022 年7 月投入试生产，达产后将实现年产200 腔体MOCVD 设备的生产能力；公司在上海临港的约18 万平方米的生产和研发基地建设也已大部分封顶，公司预计明年年初可以部分投入使用；上海临港滴水湖畔约10 万平方米的研发中心暨总部大楼也在顺利建设。未来两年，公司会有相当于现在规模十五倍大的厂房陆续建成，使公司有足够的研发、生产和营运的空间，为今后的大发展夯实基础。

    未来发展：公司将持续深耕集成电路关键设备领域、扩展在泛半导体关键设备领域应用并探索其他新兴领域的机会。（1）刻蚀机方面，公司正在开发新一代电感性等离子刻蚀设备和包括大马士革在内的刻蚀工艺，以满足5 纳米以下的逻辑芯片、1X 纳米的DRAM 芯片和200 层以上的3D NAND 芯片等产品的刻蚀需求。（2）薄膜设备方面，公司正在开发用于氮化镓和碳化硅功率器件和制造Micro-LED 的MOCVD 专用设备，集成电路前端制造所需要的原子层沉积设备（ALD）、低压化学气相沉积设备（LPCVD）和生长硅及锗硅极关键的外延设备（EPI）的研发正在积极推进中。根据公司公告，公司前期开发的一系列设备产品都已在性能和性价比上进入国际三强行列，有些产品甚至进入二强和一强地位，展现出公司强大的研发和设计能力。未来随着高端新产品的持续推出，公司的业绩有望进一步提升。

    风险因素：下游客户扩产不及预期的风险；全体员工持股带来的公司治理风险；政府补助与税收优惠政策变动的风险；国际贸易摩擦加剧风险；关键技术人员流失的风险；投资项目的实际效益与预期结果较大差异的风险；研发投入不足导致技术被赶超或替代的风险。

    盈利预测、估值与评级：公司凭借在刻蚀设备及MOCVD 设备领域的技术和服务优势，产品已广泛进入海内外半导体制造企业，形成较强的客户资源优势，伴随着高端新产品的推出，预期公司将得益于全球半导体设备需求增加，实现业绩高速发展。我们维持公司2022/23/24 年营收预测为45.72/61.32/80.63 亿元；考虑到未来公司高毛利新品持续推出和产能扩大稀释生产成本会带来产品毛利率提升，我们上调公司归母净利润预测至10.46/14.64/18.45 亿元（原预测为10.38/13.78/17.16 亿元），对应EPS 预测为1.70/2.38/2.99 元（原预测为1.68/2.24/2.79 元）。因为高研发投入以及采用销量收入作为公司成长的主要观察指标，市场对半导体设备企业普遍采用PS 估值法，A 股中可比半导体设备公司（盛美上海、芯源微、拓荆科技、华海清科）2022 年Wind 一致预期平均PS为22 倍。参考可比公司的估值，我们给予公司2022 年22 倍PS，目标价163元，维持“买入”评级。