上半年营收同比增长47%达19.7 亿元，扣非归母净利润同比增长615%达4.4 亿元，新签订单同比增长约62%达30.6 亿元。二季度单季营收10.2 亿元，扣非归母净利润同比增长4 倍以上至2.5 亿元以上。上半年的人均年化营收高达350 万元。公司设备至6 月底累计付运台数达2654 个反应台，已应用在国际一线客户从65 纳米到14 纳米、7 纳米和5 纳米及更先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。

    　　刻蚀设备持续高增长：上半年刻蚀设备收入为12.99 亿元，同比增长51%，毛利率46.05%，其中CCP 刻蚀设备收入同比增长14%至8.86 亿元，ICP 刻蚀设备收入同比增长414%至4.13 亿元，出货量也高速增长。Primo Nanova ICP 刻蚀产品已在超过15 家客户的生产线上进行100 多个ICP 刻蚀工艺的验证，工艺覆盖3D NAND芯片、DRAM芯片及逻辑芯片。截止6月底，Primo Nanova已经顺利交付超过220台反应腔，且在客户端完成验证的应用数量也在持续增加。

    　　MOCVD 受益于Mini/MicroLED 及化合物半导体市场增长：上半年MOCVD 设备收入为2.41 亿元，同比增长10%，毛利率达35.42%。用于Mini LED 的MOCVD 设备Prismo UniMax取得180 台的客户订单，制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD 设备已在客户芯片生产线上验证，制造Micro LED 的MOCVD 设备以及用于碳化硅功率器件应用的外延设备等也正在开发中。

    　　薄膜沉积设备研发进展顺利：公司所开发的LPCVD设备能够满足先进逻辑器件接触孔填充应用，以及64 层、128 层和200 层以上3D NAND 中的多个关键应用，已通过关键客户的工艺验证，并积极推进设备在客户产线进行量产验证。公司研发中的ALD 能够满足先进存储器件和逻辑器件金属阻挡层的应用，以及先进逻辑器件中金属栅极的应用。中微正研发的EPI 外延设备面向28 纳米及以下的逻辑器件、存储器件和功率器件等应用，已进入样机的制造和调试阶段。

    　　大规模扩建提供高增长保障：公司南昌约14 万平方米的生产和研发基地已部分完工，部分生产洁净室于7 月投入试生产，上海临港约18 万平方米的生产和研发基地建设也已大部分封顶，上海临港滴水湖畔约10 万平方米的研发中心暨总部大楼也在顺利建设。中微厂房面积在未来一两年可以扩大十几倍，为持续高增长提供保障。

    　　我们维持22-24 年公司每股收益预测分别为1.58、2.23、3.11 元，采用绝对估值法（FCFF），维持目标价172.28 元，维持买入评级。

    　　风险提示

    　　刻蚀设备国产化进度不及预期；半导体设备行业景气度不及预期；Mini LED 需求不及预期；政府补助下滑风险；零部件断供风险。