8 月10 日，中微公司发布2022 年中报。公司2022 年H1 实现收入19.72 亿元，同比增长47.30%；实现归母净利润4.68 亿元，同比增长17.94%；实现扣非净利润4.41 亿元，同比增长615.26%。

    盈利释放，扣非接近预告上限。尽管有上海地区疫情影响，公司仍在1H22实现了收入19.72 亿元，同比增长47.30%，包括刻蚀设备12.99 亿元，同比增长51.48%；MOCVD 设备2.41 亿元，同比增长9.90%。

    利润端表现更为亮眼，公司1H22 毛利率达45.36%，同比提升3 pct，其中刻蚀设备毛利率达46.05%，较2021年提升2 pct；MOCVD设备毛利率达35.42%，较2021 年提升2 pct。得益于此，公司上半年实现扣非净利润4.41 亿元，同比增长615.26%，接近前期预告（4.1-4.5 亿元）上限，扣非净利率达22.36%，同比提升18 pct，较2021 年全年水平提升12 pct。

    ICP 收入放量，MOCVD 收入释放，在手订单维持高增。作为国内刻蚀设备龙头，公司在维持CCP 刻蚀领先地位，市场占有率不断提升，在一些主要客户的生产线上已达到30%以上份额，同时ICP 刻蚀亦实现收入放量。1H22 实现ICP设备收入4.13 亿元，同比增长414.08%；CCP 设备收入8.86 亿元，同比增长13.98%。MOCVD 设备方面，公司前期推出的用于miniLED 生产的MOCVD 设备已获得180 台的客户订单，并在Q2 起逐渐兑现收入。截至中报，公司共计新签订单30.57 亿元，同比增长61.83%，维持了较高增速。

    多种在研新品蓄势待发。1）刻蚀：公司正在开发的用于逻辑器件大马士革刻蚀及用于极高深宽比应用的刻蚀机取得了很好的进展，将陆续进入市场。此外应客户的技术发展需求，公司亦在进行更高工艺节点的刻蚀设备开发，以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X 纳米的DRAM 芯片和200 层以上的3D NAND 芯片等产品的刻蚀需求。2）LPCVD：公司新开发的LPCVD 设备可用于逻辑器件接触孔填充及3D NAND 中多个节点，已经通过关键客户工艺验证。用于金属阻挡层和金属栅极制造的ALD 设备也在积极推进中。3）EPI：用于28nm 以下制程锗硅外延生长工艺的EPI 设备研发顺利，已进入样机制造和调试阶段。4）MOCVD：制造硅基氮化镓功率器件用MOCVD 设备已在客户产线上验证；制造Micro LED 应用的新型MOCVD 设备以及用于碳化硅功率器件应用的外延设备等也正在开发中。多种新产品顺利推进之下，我们看好公司在刻蚀/薄膜两大设备领域的平台化延伸和长线成长。

    投资建议：我们预计公司2022-2024 年营收分别为47.23/63.82/86.31 亿元，对应现价PS 分别为19/14/10 倍，考虑到公司作为国内半导体设备龙头的市场地位，有望享受下游扩产和国产化红利，维持“推荐”评级。

    风险提示：产品验证不及预期；下游行业周期性波动；市场竞争加剧。