国内刻蚀设备龙头，平台化布局四大产品线。公司成立于2004 年，专注于半导体介质刻蚀设备研发及产业化，公司立足介质刻蚀设备并积极进行多元化产品布局，目前主要产品包括半导体刻蚀设备、MOCVD 设备、薄膜沉积设备（CVD）以及环保设备，产品型号接近20 余款，下游客户覆盖包括台积电、三星、华虹等在内的国内外一线逻辑、存储和功率晶圆厂商。公司2021 年营业收入同比增长36.7%达31.08 亿元，2017~2021 年营业收入年均复合增速达34.0%。

    刻蚀设备：公司核心产品，覆盖80%以上前道晶圆制程工艺。公司深耕刻蚀设备近20 年，形成完整的产品系列，是全球逻辑、存储晶圆厂商先进制程工艺刻蚀设备核心供应商。随着集成电路尺寸及线宽缩小、产品结构立体化和制程工艺复杂化趋势，公司刻蚀产品逐步丰富，高端产品市占率将继续提升。

    薄膜设备：公司主力产品，新产品持续放量。MiniLED 赛道前景广阔，增长迅速，公司推出用于MiniLED 的MOCVD 设备，半年之内获得超100 腔订单，并积极布局MicroLED、功率器件及第三代半导体用MOCVD 设备，高价值新品布局及放量有望成为后续一大亮点。自主研发钨填充CVD 设备和EPI 设备进展顺利，有望在未来一到两年形成收入。

    投资建议： 预计公司2022~2024 年归母净利润分别为10.72/13.06/17.09 亿元，同比+6.0%/+21.8%/+30.9%。考虑到公司设备处于放量阶阶段，平台化发展成效显著，给予公司2022 年18倍PS，对应目标价132.8 元/股，首次覆盖，给予“买入”评级。

    风险提示：下游客户验证不及预风险；竞争加剧风险；部分关键零部件卡脖子风险。