事件：公司发布2021 年度报告。公司2021 年度实现营业收入31.08 亿元，同比增长36.72%；实现归母净利润10.11 亿元，同比增长105.49%；实现扣非净利润3.24 亿元，同比增长1291.10%。
公司持续深耕集成电路关键设备领域，外延拓展泛半导体关键设备领域应用。刻蚀和MOCVD 设备在产品研发与市场布局上取得了较大的突破和进展，我们看好国内积极推动半导体设备国产化的背景下，公司持续发挥技术与产品的竞争优势，推动业务持续增长。
新签订单持续落地营收有望进一步提升，产品结构优化毛利率同比增幅大。2021 年刻蚀设备收入为20.04亿元，较2020 年增长约55.44%，毛利率达到44.32%；由于下游市场原因以及本年新签署的Mini LED MOCVD设备规模订单尚未确认收入，2021 年MOCVD 设备收入为5.03 亿元，较2020 年增长约1.53%，但MOCVD设备的毛利率达到33.77%，较2020 年的18.65%有大幅度提升。公司2021 年新签订单金额为41.3 亿元，较2020 年增加约19.6 亿元，同比增加约90.5%。
刻蚀设备业务收入大幅增长，重复订单凸显公司产品竞争力。2021 年，公司CCP 刻蚀设备产品保持竞争优势，Primo AD-RIE、Primo SSC ADRIE、Primo HD-RIE 等产品批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线，在部分客户市场占有率已进入前三位。公司2021 年共生产付运CCP 刻蚀设备298 腔，产量同比增长40%。此外，在先进逻辑电路方面，公司持续升级硬件性能，成功取得5 纳米及以下逻辑电路产线的重复订单。在存储电路方面，公司的刻蚀设备在64 层及128 层3D NAND 的生产线得到广泛应用。
随着3DNAND 芯片制造厂产能的迅速爬升，该等产品的重复订单稳步增长。同时，公司积极布局动态存储器的应用，并开始工艺开发及验证。公司积极与主流客户合作，定义下一代CCP 刻蚀机的主要功能及技术指标，正开发更先进的CCP 刻蚀机产品。公司 ICP 刻蚀设备在 2021 年也在客户端取得突破性进展，已通过诸多客户的工艺认证并获得重复订单。公司 2021 年 ICP 刻蚀机付运超过130 腔，同比增长超过230%。
MOCVD 第二增长曲线扬帆起航，积极布局第三代半导体应用设备。2021 年，公司蓝光照明Prismo A7以及深紫外 LED 外延片Prismo HiT3 产品持续服务客户；公司在 2021 年6 月正式发布用于高性能 MiniLED 量产的 MOCVD 设备 Prismo UniMax。该设备专为高产量而设计，具备高波长均匀性、高良率等优点，此外，该设备可同时加工 164 片4 英寸或72 片6 英寸外延片，已收到来自国内多家领先客户的批量订单合计超过 100 腔。公司正在与更多客户合作进行设备评估，扩大市场推广。Prismo UniMax 设备拓展了公司的MOCVD 设备产品线，为全球 LED 芯片制造商提供极具竞争力的Mini LED 量产解决方案。
同时，公司也正在开发针对 Micro LED 应用的专用MOCVD 设备。公司还积极布局用于功率器件应用的第三代半导体设备市场，开发GaN 功率器件量产应用的 MOCVD 设备，目前已交付国内外领先客户进行生产验证。此外，公司启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发，将进一步丰富公司的产品线。
募投项目持续进展，产业化建设顺利推进。为扩充资产规模、增强公司实力以持续做大做强主业，公司在2021 年内完成了向特定对象发行股票，本次向特定对象发行股票数量为 80,229,335 股，发行价格为102.29 元/股，本次发行的募集资金总额为 8,206,658,677.15 元。中微临港产业化基地项目已经完成结构封顶；南昌中微半导体设备有限公司生产基地项目已完成厂内主要道路施工，各主要单体建筑均已封顶；中微临港总部和研发基地项目正在进行施工前临设搭建、机械进场组装等准备工作。
股权激励彰显信心，为公司持续健康发展提供机制保障。公司于2022 年3 月发布股权激励草案，激励对象总人数为1104 人，占公司全部职工人数的99.37%，向激励对象授予400 万股限制性股票，约占本激励计划草案公告时公司股本总额61,624.45 万股的0.649%。限制性股票的授予价格为每股50 元，即满足授予条件和归属条件后，激励对象可以每股50 元的价格购买公司向激励对象增发的公司A 股普通股股票。
投资建议：由于公司研发与新产品推出稳步进行，我们原本预期21-23 净利润6.17/7.87/9.89 亿元，上调至22-24 年实现11.24/14.13/17.50 亿元，维持公司“买入”评级。
风险提示：新应用及新产品拓展不及预期；竞争环境恶化风险；供应商扩产不及预期。