公司集成电路关键设备核心技术竞争力强，三维布局打开未来成长空间。公司聚焦用于集成电路、LED 芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD 设备等关键设备研发、生产和销售；并已组建团队开发LPCVD 设备和EPI 设备，研发进展按计划进行中。公司坚持从三个维度拓展业务布局：深耕集成电路关键设备领域，强化在刻蚀设备领域的竞争优势，延伸至薄膜、检测等其他关键设备领域；拓展在泛半导体关键设备领域应用，布局显示、MEMS、功率器件、太阳能领域的关键设备；以及探索其他新兴领域的机会，包括更多集成电路及泛半导体设备生产线相关环保设备及医疗健康智能设备等领域。

    　　刻蚀设备持续往更先进、复杂方向突破，收入增长明显。①、逻辑集成电路制造环节，公司的12 英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65 纳米到5纳米等先进的生产线上；已开发出小于5 纳米刻蚀设备用于若干关键步骤加工，已获得行业领先客户批量订单；②、3D NAND 芯片制造环节，公司的电容性等离子体刻蚀设备应用于64 层和128 层量产，同时在开发新一代涵盖128 层以上关键刻蚀应用以及相对应的极高深宽比刻蚀设备和工艺。刻蚀设备的销售收入从2018 年5.66 亿元增长到2021Q1-Q3 的13.52 亿，增长明显；我们看好未来几年国内晶圆厂持续扩产带来对关键核心刻蚀设备的需求。

    　　Mini-LED/Micro LED 生产的MOCVD 设备需求未来几年持续放量。MOCVD设备Prismo A7 已在全球氮化镓基LED MOCVD 市场中占据领先地位；公司研发用于制造深紫外光LED 的高温MOCVD 设备Prismo HiT3 已在行业领先客户端用于深紫外LED 生产验证并获得重复订单；制造功率器件用MOCVD设备已在客户芯片生产线上投入使用；用于Mini LED 生产的MOCVD 设备研发工作进展顺利，已有设备在领先客户端开始生产验证；制造Micro LED等应用的新型MOCVD 设备正在开发中。MOCVD 设备收入2021Q1-Q3 实现3.04 亿元；21Q3 公司已新签Mini-LED MOCVD 设备规模订单，我们看好公司在Mini LED/Micro LED 生产的MOCVD 设备的未来需求放量。

    　　盈利预测及估值建议。我们预计2021E-2023E 收入分别为32.58 亿元、44.41亿元、59.04 亿元，同比增43.31%、36.31%和32.94%；归母净利润（扣非前）分别为7.34 亿元、9.41 亿元、11.18 亿元，同比增49.20%、28.19%和18.73%。采用PE 估值法，结合可比公司估值水平，我们给予公司2021E（PE）150x-170x 估值，对应合理市值区间1101.57 亿元-1248.45 亿元，合理价值区间178.76 元/股-202.59 元/股，首次给予“优于大市”评级。

    　　风险提示：宏观经济波动风险、技术研发不及预期、市场开拓不及预期。