事件

    　　10 月27 日盘后，公司发布三季报，前三季度实现营收20.73 亿元，同比增长40.40%；归母净利润5.42 亿元，同比增长95.66%。

    　　扣非净利润为1.65 亿元，同比增长462.69%。

    　　简评

    　　一、营收净利润双增长，新签订单同比超过一倍2021 年1-9 月营业收入20.73 亿元，较上年同期增加约5.96 亿元，主要系：（1）受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，1-9 月刻蚀设备收入为13.52 亿元，较去年同期增长约99.01%，毛利率达到43.97%；（2）由于下游市场原因以及本年新签署的Mini-LED MOCVD 设备规模订单尚未发货，2021 年1-9 月MOCVD 设备收入为3.04 亿元，较去年同期下降约24.27%，但MOCVD 设备的毛利率达到32.21%，较去年同期有大幅度提升。

    　　3）订单饱满，存货相应增加。2021 年1-9 月新签订单金额达35.2亿元，同比增长超过110%；同期存货金额达到16.58 亿元，较上年同期增加4.58 亿元，随着设备发货交付，明年业绩增长确定。

    　　2021 年1-9 月扣除非经常性损益的净利润为1.65 亿元，去年同期为亏损0.45 亿元；增长约2.10 亿元，主要系：（1）营业收入增长5.96 亿元，同时公司本期毛利率从去年的34.78%增长至42.68%，毛利较上年同期增加约3.71 亿元；（2）2021 年1-9 月股份支付费用为1.83 亿元，较上年同期的0.61 亿元增加约1.21亿元；（3）由于员工人数和员工薪酬的增长，不含股份支付费用的销售费用、管理费用和研发费用合计较上年同期增加约0.38 亿元。

    　　二、订单逐步确认收入，刻蚀与MOCVD 设备成长性可期2021 年Q3 营业收入7.34 亿元，较上年同期增加约2.36 亿元，环比下降0.01 亿元，主要系：（1）受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，7-9 月刻蚀设备收入为4.94 亿元，较去年同期增长约132.43%，（2）由于下游市场原因以及本年新签署的Mini-LED MOCVD 设备规模订单尚未发货，7-9 月MOCVD 设备收入为0.84 亿元，较去年同期下降约46.29%。

    　　Q3 的存货增加2.26 亿元至16.58 亿元，随着存货转入销售，订单逐步兑现收入。

    　　刻蚀设备进展：公司开发的 12 英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户最先进的生产线上并用于 5 纳米、5纳米以下器件中若干关键步骤的加工；在 3D NAND 芯片制造环节，公司的电容性等离子体刻蚀设备技术已应用于 64 层和 128 层的量产，电感性等离子体刻蚀设备技术已应用于 64 层的量产。公司相继发布新一代电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备 Primo Twin-Star，用于 IC 器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用，以及 8 英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备 Primo AD-RIE 200，不断满足客户的多样化需求，助力客户应对行业挑战。

    　　Mini-LED 今年为放量的元年，带动设备需求倍增，同时带来公司MOCVD 设备新增长。公司的 Prismo A7 设备技术实力突出，已在全球氮化镓基 LED MOCVD 市场中占据领先地位。公司发布了专为高性能 Mini-LED 量产而设计的 Prismo UniMax MOCVD 设备，具有业内领先的加工容量，通过石墨盘晶片排布的最优化，其加工容量可以延伸到生长 164 片 4 英寸或 72 片 6 英寸晶片，用于 Mini-LED 生产的 MOCVD 设备 PrismoUniMax已收到来自国内领先客户的订单，同时制造 Micro LED 等应用的新型 MOCVD 设备也正在开发中。

    　　三、长期成长路径清晰，持续推荐，给予“买入”评级公司作为本土半导体设备领先企业，考虑到刻蚀设备和Mini-LED 设备快速突破。我们上调此前盈利预测，我们预计2021-2023 年营收为32.51/44.54/57.90 亿元，对应归母净利润6.43/8.30/10.78 亿元（前值为5.83/7.45/9.56亿元），EPS 为1.04/1.35/1.75 元/股，对应PS 27/20/15X，基于公司为国内半导体刻蚀设备龙头，以及国内半导体设备国产化率非常低，公司薄膜沉积设备（EPI、LPCVD）有望明年推出，我们采用PS 进行估值，以2021 年50X PS 给予6 个月目标价264 元/股（目标价保持不变），给予“买入”评级。

    　　风险提示：1）客户拓展不及预期；2）新品量产缓慢行业催化剂：1）景气度上行；2）客户资本开支提升