事件：2021 年10 月28 日，公司发布2021 第三季度报告。公司2021 前三季度营业收入为20.73 亿元，同比增长40.40%；实现归母净利润5.42 亿元，同比增长95.66%；实现扣非归母净利润1.65 亿元，扭亏为盈。公司2021 前三季度毛利率为42.68%，同比增长7.91pcts；净利率为26.13%，同比增长7.37pcts。
公司前三季度新签订单金额达35.2 亿元，同比增长超110%。
公司2021Q3 营业收入为7.34 亿元，单季环比减少0.15%，单季同比增长47.45%；实现归母净利润1.45 亿元，单季环比减少43.90%，单季同比减少8.02%；实现扣非归母净利润1.03 亿元，单季环比增长104.55%，单季同比扭亏为盈。公司2021Q3 毛利率为43.31%，单季环比减少0.19pcts，单季同比增长6.85pcts；净利率为19.77%，单季环比减少15.43pcts，单季同比减少11.96pcts。
点评：刻蚀设备前三季度收入同比增长约99%，单季度同比增长约132%。受益于半导体设备市场发展及公司产品优势，公司刻蚀设备前三季度收入为13.52亿元，同比增长99%，毛利率达到43.97%，单季度收入为4.94 亿元，同比增长约132%，刻蚀设备收入实现翻倍增长。公司刻蚀设备包括主要CCP、ICP 和TSV 刻蚀机，其中CCP 刻蚀机是目前主打的设备，已经进入世界先进的7-3nm生产线，ICP 刻蚀机可提供单反应台和双反应台，已经有不错的订单表现，TSV刻蚀机主要面对先进封装和MEMS 芯片，已经进入海内外主流客户的生产线。
根据Gartner 分析，2020 年在全球晶圆制造设备销售金额占比中刻蚀设备（包含清洗设备）、薄膜沉积和光刻设备分别占晶圆制造设备价值量约29%、22%和21%，刻蚀设备市场规模将由2020 年约123 亿美元增长至2024 年约152亿美元。随着工艺制程的不断推进，14nm 制程所需使用的刻蚀步骤达到64 次，较28nm 提升60%，7nm 制程所需刻蚀步骤更是高达140 次，较14nm 提升118%，工艺升级持续推动刻蚀机用量提升，公司主打的刻蚀设备的价值量会逐步放大。
MOCVD 毛利率大幅提升至32.21%，有望随MINI/ MICRO LED 市场逐步放量。
由于下游市场原因以及本年新签署的Mini-LED MOCVD设备规模订单尚未发货，MOCVD 设备2021 前三季度收入为3.04 亿元，同比下降约24.27%，单季度收入为0.84 亿元，同比下降约46.29%，但毛利率大幅提升到32.21%。
MOCVD 设备采购金额一般占LED 生产线总投入的一半以上，是LED 外延片制造中最重要的设备。公司的MOCVD 设备PrismoD-Blue、PrismoA7 能分别实现单腔14 片4 英寸和单腔34 片4 英寸外延片加工能力，其中PrismoA7 设备已经在全球氮化镓基LEDMOCVD 市场中占据领先地位，用于制造深紫外光LED的高温MOCVD 设备PrismoHiT3 已在行业领先客户端生产验证并获得重复订单，制造功率器件用MOCVD 已在客户芯片生产线上投入试用，用于Mini-LED生产的MOCVD 设备PrismoUniMax已收到来自国内领先客户的订单，此外制造MicroLED 等应用的新型MOCVD 设备也正在开发中。随着2019 年新兴的MiniLED/MicroLED 进入显示器领域，将推动MOCVD 设备快速增长。根据Yole分析，到2026 年全球MOCVD 设备市场有望达到6.3 亿美金，2020-2026 年的复合增长率达7%，公司作为全球领先的MOCVD 供应商有望持续受益。
三维立体发展，维持公司高速稳定增长。公司在半导体设备领域除刻蚀设备、MOCVD 设备外，目前正在研发LPCVD 以及EPI 设备，并且入股沈阳拓荆（PECVD和ALD）和睿励科学仪器（前道膜厚、线宽和缺陷检测），布局太阳能等泛半导体领域的设备，同时利用自己在半导体领域的核心技术优势积极扩展环境保护、工业互联网等领域的应用，对冲半导体设备的周期性波动，维持公司未来高速稳定的增长。
盈利预测、估值与评级：中微公司在CCP、ICP 和MOCVD 设备领域具有较强的技术实力，同时利用自身优势积极开拓泛半导体以及环境保护等领域的发展空间，考虑到晶圆厂产能不断扩张以及未来Mini/Micro LED 市场的持续放量，我们维持公司2021-2023 年的归母净利润分别为6.77 亿元、7.63 亿元和10.59 亿元，当前市值对应的PE 分别为131x、116x、83x，维持“买入”评级。
风险提示：客户导入及验证不及预期，晶圆厂扩张不及预期，技术研发不及预期。