半导体设备技术实力持续强化，多维发展战略清晰公司中报：21H1 营收13.39 亿元，同比+36.82%，实现归母净利3.97 亿元，同比+233.17%，扣非后0.62 亿元，同比+53.35%。半导体刻蚀设备销售高增长、公允价值变动收益大增（公司投资青岛聚源芯星而间接持有中芯国际科创板股票）是利润同比显著提升的主因。公司三维度布局规划：深耕集成电路关键设备领域、扩展在泛半导体关键设备领域应用、探索其他新兴领域的机会；其中IC 设备领域公司考虑扩大刻蚀设备竞争优势，延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域。预计21-23 年EPS 为0.77、1.02、1.38 元，可比公司21 年PE、PS 均值为177、40 倍（Wind 一致预测），我们认为中微突出的技术及研发实力、海内外市场地位在本土稀缺度高，应有一定估值溢价，给予21 年PS 41x，目标价209.46（前值123.53）元。增持评级。

    　　受益于下游扩产及设备国产化机遇，公司半导体设备销售及订单高增长公司21H1 刻蚀设备收入8.58 亿元，同比+83.79%，毛利率达44.29%；MOCVD 设备收入2.19 亿元，同比-10.08%，但毛利率达30.77%，同比大幅度提升。21H1 新签订单达18.89 亿元，同比增长超过70%，且有部分Mini-LED MOCVD 设备规模订单已进入最后签署阶段。21H1 整体毛利率同比+8.42pct 至42.34%，归母净利率同比+17.46pct 至29.63%。研发投入达2.9 亿元，同比+38%，占收入比重达21%。

    　　刻蚀设备技术迈向世界先进水平，紧密契合国内外主流晶圆厂前沿工艺主要产品进展：1）CCP：多款产品批量应用于国内外一线客户产线，在部分客户市占率已进入前三；公司推出首台用于8 寸的CCP 设备，丰富产品线，能满足不同客户8 寸加工需求。2）ICP：Primo nanova 在10 家客户产线进行验证，已有超70 个工艺达到客户产线指标要求，Primo Nanova第100 台反应腔顺利交付。具有高输出率特点的双反应台ICP 设备PrimoTwin-Star 也已经在客户端完成认证，并收到来自国内领先客户的订单。

    　　潜力深远的半导体设备国产化先锋，维持“增持”评级公司刻蚀设备技术及市场突破高速推进，多维发展路径明晰，考虑到间接持有中芯国际科创板股票的公允价值变动收益，我们上调21~23 年盈利预测，预计2021~23 年归母净利润为4.8（前值3.8）/6.3（前值5.7）/8.5（前值7.9）亿元，PE 235/178/132 倍，PS 36/27/22 倍。

    　　风险提示：半导体周期性波动；国内芯片技术突破、产业投资不及预期；公司技术突破慢于预期：海外疫情加剧；知识产权争议和海外技术封锁；股东减持引发股价波动的风险。