事件：2021年8月25日，公司发布中报业绩，上半年公司实现营业收入13.39 亿元，同比增长36.8%；实现归母净利润3.97 亿元，同比增长233.2%；实现扣非归母净利润0.62 亿元，同比增长53.35%。单Q2，实现营收7.35 亿元，同比增长29.95%；实现归母净利润2.58 亿元，同比增长178.88%；实现扣非归母净利润0.51 亿元，同比增长8.93%。

    　　业绩符合预期，等离子刻蚀设备营收大幅增长，MOCVD 设备蓄势待发公司上半年实现营收13.39 亿元，同比增长36.8%，其中专用设备实现营收10.77 亿元，yoy+51.62%，占比80.47%；备品备件实现营收2.47 亿元，yoy-2.88%，占比18.47%。专用设备分种类来看：1）刻蚀设备：收入8.58亿元，同比增长83.79%，刻蚀设备高增长主要得益于：①全球设备市场高速增长，SEMI 预测2021 年全球半导体设备市场规模将增长12%达797亿美元。②在前道细分设备价值占比方面，微观加工器件不断缩小推动了器件结构和工艺制程的革命性变化，存储器件从2D 到3D 的转换使得等离子刻蚀和薄膜工艺成为最关键的步骤，刻蚀设备的需求量大幅增加，市场规模的增长速度远高于其他设备。③公司在等离子刻蚀设备领域产品竞争优势显著，加速领跑国产替代进程。2）MOCVD 设备：收入2.19 亿元，同比下降10.1%，收入下滑主要系照明LED 市场趋于饱和，近期MOCVD 市场处于低潮；但Mini-LED、Micro-LED、功率器件以及深紫外LED 正处于大爆发前夕，将会推动MOCVD 设备形成新的发展浪潮。

    　　公司上半年归母净利润3.97 亿元，同比增长233.2%，归母净利润增速超过营收增速，主要系公允价值变动及政府补助等因素带来非经常性损益合计3.35 亿元。实现扣非归母净利润0.62 亿元，同比增长53.35%。

    　　刻蚀设备&MOCVD 设备不断推陈出新，产品体系日益健全公司产品体系日益健全，现有产品中刻蚀领域CCP 设备优势稳固，ICP设备加速放量，MOCVD 领域不断推陈出新，下游认证顺利。

    　　（1）等离子刻蚀机方面。①公司CCP 刻蚀设备产品保持竞争优势，多款产品批量以用于国内外一线客户集成电路加工制造生产线，并持续提升市占率，在部分客户市场占有率已进入前三位。逻辑电路领域，公司成功取得5nm 及以下逻辑电路产线的重复订单。存储器领域，公司刻蚀设备在64 层及128 层3D NAND 的生产线得到广泛应用，重复订单稳步增长，同时积极布局动态存储器的应用，并开始工艺开发及验证。②ICP刻蚀设备逐步趋于成熟，Primo Nanova产品在 10 家客户的生产线上进行验证，已有超过 70 个工艺在客户的生产线上达到指标要求，且持续扩大应用验证范围。2021 年6 月，公司ICP 设备 Primo Nanova第100台反应腔顺利交付，经过客户验证的应用数量也在持续增加。

    　　（2）MOCVD 设备方面：报告期内公司正式发布用于高性能Mini-LED量产的MOCVD 设备Prismo UniMaxTM，专为高量产而设计，具有业内领先的加工容量，目前已收到国内领先客户的批量订单。

    　　践行外延式发展策略，加速平台化进程

    　　公司积极探索相关领域的投资机会，公司通过参与投资沈阳拓荆、山东天岳、德龙激光等项目拓展薄膜设备、碳化硅衬底材料、激光切割等领域，运营情况均表现良好，并已申报科创板上市获受理。报告期内，公司完成对睿励仪器的增资，进一步巩固产业链协同效应，完善光学检测领域业务布局。未来，公司将从刻蚀设备延伸到化学薄膜、检测等其他IC 关键设备领域；扩展在泛半导体领域设备的应用，如显示，MEMS、功率器件、太阳能领域的关键设备，同时将利用核心技术能力探索其他新兴领域，最终实现集成电路设备、泛半导体设备、非半导体设备领域的三维成长。

    　　投资建议

    　　2021-2023 年，公司归母净利润分别为6.03 亿、8.21 亿、11.65 亿，同比增速分别为22.6%、36.1%、41.9%，公司EPS 分别为0.98/1.33/1.89 元，对应PE 175.83/129.17/91.05X。首次覆盖，给予“买入”评级。

    　　风险提示

    　　下游晶圆厂资本开支不及预期，行业竞争加剧、全球贸易摩擦深化带来半导体全产业不确定性。