中微作为国内刻蚀设备龙头，传统CCP 在国内主流晶圆厂占据相当份额且出口至海外主流晶圆厂，ICP 刻蚀新品推出提供后续成长动力，Mini LED 和功率等应用也给MOCVD 带来新的增量。在全球设备高景气度行情下，公司21H1 实现营收与净利润同比高增长，通过内生增长+外延并购拓展产品线，打造泛半导体设备平台。

    21H1 整体收入和归母净利润均实现同比高增长。公司21H1 实现营收13.39 亿元，同比+36.82%；归母净利润3.97 亿元，同比+233.17%；扣非归母净利润0.62亿元，同比+53.35%。21Q2 单季度实现收入7.35 亿元，同比/环比分别+29.95%/+21.87%。①产品结构：21H1 刻蚀设备营收8.58 亿元，同比+83.79%；MOCVD 营收2.19 亿元，同比-10.08%。刻蚀设备营收高增长主要系国内晶圆厂加速扩产叠加ICP 新品加速放量。MOCVD 营收小幅下滑主要系LED 行业景气度疲软。②毛利率：21Q2 毛利率43.5%，同比+9.54pcts，环比+2.58pcts，主要系MOCVD 毛利率大幅改善，21H1 MOCVD 毛利率同比增长18.8pcts。③净利润：

    21Q2 归母净利润2.59 亿元，同比+178.87%，环比+87.89%；扣非归母净利润0.51 亿元，同比+8.91%，环比+354.67%。21H1 非经常性损益3.35 亿元，主要包括公允价值变动收益1.72 亿元、政府补助2.13 亿元等。剔除21H1 股份支付费用1.48 亿元后，21H1 经营性净利润达2.06 亿元，同比大幅提升。

    全球半导体设备市场维持高景气，本土厂商加速扩产。自20H2 全球产能紧张以来，TSMC、UMC 等Foundry 上调2021 年全年资本支出，21H1 北美及日本设备出货金额不断创历史新高。中国大陆晶圆厂也加速扩产，叠加设备国产化率的提升，国内设备商季度收入同比趋势、合同负债均彰显充足的销售订单。因此，国内北方/中微/芯源微/盛美/拓荆/屹唐等设备龙头均通过定增/IPO 方式融资扩产。

    CCP 市占率稳步提升，ICP 刻蚀新品加速放量。全球刻蚀设备市场超百亿美元，中微目前拥有CCP 和ICP 两大刻蚀产品线。中微CCP 刻蚀设备打入国内外主流晶圆厂，2010-2020 年CCP 反应台装机数CAGR 达33.45%。随着全球晶圆厂加速扩产公司CCP 有望稳步增长。公司ICP 设备nanova 经过长时间验证及小批量出货后逐渐进入出货爆发期。未来ICP 有望取代传统的CCP 成为市场主导的刻蚀设备，将给公司带来刻蚀第二成长曲线。

    MOCVD 设备拓展新型领域，后续打开成长空间。公司在GaN 基LED MOCVD设备新增市场中排名第一。由于全球LED 产值增速放缓，公司MOCVD 积极布局Mini LED、功率器件等领域，部分Mini LED MOCVD 设备规模订单已进入最后签署阶段。公司新募投项目规划2026 年MOCVD 产能达235 腔。

    内生增长+外延并购，三维成长打造设备平台型企业。公司持续提升刻蚀设备和MOCVD 两大设备竞争力，同时通过外延并购来拓展其他品类，通过参/控股睿励仪器、拓荆科技、SOLAYER、中微惠创等国内外企业积极布局检测、CVD、外延生长与VOC 设备，实现半导体设备+泛半导体设备+非半导体设备三维成长。

    投资建议：我们预测公司21/22/23 年营业收入为32.14/43.43/54.37 亿元，归母净利润为6.02/7.21/8.05 亿元，对应PS 为33.01/24.43/19.57 倍，可比公司PS均值为62.75/34.42/24.33 倍，首次覆盖，给予“审慎推荐-A”评级。

    风险提示：LED 下游需求不及预期，国内晶圆厂扩产不及预期，海外客户拓展不及预期，新品拓展不及预期，刻蚀设备行业竞争加剧的风险。