事件概述

    　　公司发布2020 年度向特定对象发行A 股股票上市公告书，本次发行A 股股票总数量为8022.9 万股，发行价格为102.29 元/股，发行对象共20 名，限售期6 个月。截至2021 年6 月22日，已收到认购对象缴付的认购资金净额81.18 亿元。已于中国证券登记结算有限责任公司上海分公司办理完成登记托管及限售手续。

    　　分析判断:

    　　国家大基金二期参与认购，发行后持股3.97%

    　　本次定增项目的发行对象中，国家集成电路产业基金二期获配2444.03 万股，占本次发行数量的30.46%，获配金额约25 亿元，本次发行后持股比例为3.97%。此外，获配的机构还有：

    　　工银瑞信基金908.2 万股（占11.3%）、新加坡政府投资公司761.6 万股（占9.5%）、国泰君安证券538.7 万股（占6.7%）、中金公司 396.9 万股（占4.9%），高毅资产379.96 万股(占4.7%)。

    　　定增三大项目，产能规模进一步扩张

    　　本次募集资金主要投向公司产业化基地建设项目、中微临港总部和研发中心项目及科技储备资金。中微产业化基地（临港）主要承担现有产品的改进升级、新产品开发生产及产能扩充，包括等离子体刻蚀设备（630 腔/年）、MOCVD 设备（120 腔/年）、热化学CVD 设备（220 腔/年）、环境保护设备（180 腔/年）。南昌产业化基地主要承担较为成熟的大规模量产及部分产品的研发升级。中微临港总部研发中心项目将搭建从研发到投产的全周期研发平台，开展高端半导体、泛半导体领域相关产品与设备制造的研发工作。其中 CCP 刻蚀设备方面，主要布局UD-RIE 刻蚀设备（主要用于128 层及以上的3D NAND 极高深宽比CCP 刻蚀）以及SD-RIE 刻蚀设备（主要用于14nm 及以下逻辑器件的大马士革刻蚀）。ICP 刻蚀方面，主要布局下一代单台反应器ICP 刻蚀设备Nanova+、下一代双台反应器ICP 刻蚀设备Twin-Star+以及ALE 原子层刻蚀设备的研发。MOCVD 设备方面，主要布局碳化硅材料功率器件的外延生长设备和技术的研发 。科技储备资金将用于新产品协作开发项目（包括红黄光MOCVD、大面积平板显示、PECVD 等化学薄膜、光学检测设备等）及对外投资并购项目。定增项目的落地将进一步扩充现有集成电路设备及泛半导体设备产品线产能、提高公司产品的科技创新水平，满足公司研发项目发展与业务扩张需求，持续强化公司的科创实力，为公司持续健康发展奠定坚实 基础。

    　　投资建议

    　　维持此前盈利预测，我们预计 2021-2023 年公司营收分别为30.85 亿元、41.28 亿元、53.10 亿元，归母净利分别为5.05亿元、6.41 亿元、8.32 亿元。2021-2023 年实现每股收益为0.82 元/1.04 元/1.35 元，对应现价 PE 分别为 184 倍、145倍、112 倍，我们看好公司作为国内刻蚀设备龙头，随着国内半导体行业对上游设备需求的不断提升，公司收入和净利润有望实现持续增长，维持“买入”评级。

    　　风险提示

    　　新产品新技术研发低于预期、国产化替代进展低于预期、中美贸易摩擦加剧。