一、事件概述

    　　2021/4/27 公司公布2021 年一季报。21Q1 实现营业收入6 亿元，同比增长46%，实现归母净利润1.4 亿元，同增425%。

    　　二、分析与判断

    　　MOCVD 和刻蚀设备均实现高速成长

    　　21Q1：实现营收6 亿元，同增46%，其中刻蚀设备/MOCVD 分别为3.5/1.3 亿，分别同增64%和77%。毛利率41%，同增7pct。研发费用率14%，同增4%。此外，股权激励相关费用相比去年同期增加0.51 亿元（ 根据公司公告， 2021-24 年分别为1.61/0.85/0.42/0.11 亿）。实现归母净利润1.4 亿元，同增425%。

    　　刻蚀受“大客户先进制程扩产延迟+存储未起量”影响，MOCVD 迎接回暖1）刻蚀设备：2020 年同比+59%，2021Q1 营收3.5 亿元，同比+64%，主要受国内大客户先进制程扩产延缓+存储产品未大规模起量影响。其中台湾客户2018 年贡献营收的11%、2020 年18%。目前CCP 刻蚀设备在逻辑芯片领域取得5nm 及以下产线重复订单、存储芯片重复订单稳步增长；ICP 刻蚀设备新品Primo nanova 已上产线进行验证，双反应台在客户端完成认证。

    　　2）MOCVD：迎接回暖。在2018 年达到峰值后，2019/2020 年同比-9%/-34%，连续两年下跌。2021Q1 营收133 百万元，同比+77%，Mini led 设备已处于客户验证阶段，持续关注下游新兴市场mini led、GaN/SiC 化合物半导体扩产情况。

    　　定增百亿，奠定长线布局

    　　公司实行三维发展战略，即半导体关键设备，泛半导体关键设备，其他新兴领域。公司拟募集资金不超过100 亿元，为未来长线发展奠定基础：

    　　1）中微临港总部和研发基地：投资37 亿，研究下一代半导体设备，建设期5 年。

    　　2）产业化基地：包括上海临港（定位新品）、南昌基地（定位成熟产品），共投资32 亿，建成后离子体刻蚀设备、MOCVD 设备、热化学CVD 设备、环境保护设备产能分别为630、120、220、180 腔/年，建设期5 年。

    　　3）科技储备资金：31 亿用于合作开发、对外投资及并购等。公司目前已投入检测机、太阳能设备、大面积显示屏、微观加工设备等。

    　　三、投资建议

    　　预计21-23 年公司营业收入分别为31/41/54 亿元，归母净利润分别为5/6/8 亿，对应估值分别为129/98/76 倍。参考SW 电子2021/4/30 最新TTM 估值83 倍，同时考虑到国产替代空间广大，公司为半导体设备龙头，我们认为公司低估，首次覆盖给予“推荐”

    　　评级。

    　　四、风险提示：

    　　中美贸易摩擦加剧，大客户出货量不及预期。