事件概述

    　　公司发布 2021 年一季度业绩报告，2021 年第一季度实现营业收入 6.03 亿元，同比增长 46.24%，实现归属于上市公司股东的净利润 1.38 亿元，同比增长 425.36%，扣非后净利润 0.11亿元，较上年同期增加约 0.17 亿元，由亏损转为盈利。

    　　分析判断:

    　　Q1 业绩大幅增长，刻蚀与 MOCVD 设备双发力2021 年一季度公司收入同比增长 46.24%，主要受益于市场行情向好及公司产品竞争优势，公司主营刻蚀设备和 MOCVD 设备一季度分别实现收入 3.48 亿元和 1.33 亿元，同比增长 63.75%和 76.85%。公司在收入增长的同时控制成本，毛利率较上年同期增长 7.06 个百分点，扣非后净利润同比扭亏为盈。公司净利润同比增长 425.36%，主要系计入当期损益的政府补助较上年同期增长 1.43 亿元。目前行业下游客户需求旺盛，全球新建和扩产晶圆厂主要集中在中国大陆，中国大陆半导体设备市场规模在全球占比约 20%至 25%，有利于国产设备工艺验证的本土化配套。预计全球半导体制造设备市场将继续增长，2021年达到 719 亿美元，2022 年有望达到 761 亿美元。公司深耕芯片制造刻蚀领域，作为国内刻蚀设备的龙头企业，迎来发展机遇，公司汇集行业顶尖人才，坚持以市场和客户需求为导向，在产品研发、市场布局、新业务投资拓展等诸多方面取得较大突破，已进入国际客户最先进生产线。

    　　刻蚀设备增势强劲，高投入巩固竞争优势

    　　随着美国加大对中国大陆半导体技术限制，国产设备在制造产线本土化配套的机会和支持力度大幅提升，等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备的市场增速在前道设备中居首，其中等离子体刻蚀设备年市场规模超过 120 亿美元，预计 2025 年将达到 150亿美元。公司在细分领域中市占率不断提高，持续扩大研发投入，2021 年一季度研发投入占营收比 23.31%，较上年同期增加 5.79 个百分点，大幅超过科创板半导体公司平均水平。公司定增募资 100 亿元用于产能提升和新设备技术研发，规划等离子体刻蚀设备产能为 630 腔/年，和包括 UD-RIE 介质刻蚀设备、SD-RIE 介质刻蚀设备、ICP 多晶硅刻蚀设备、125638ALE原子层刻蚀等新半导体刻蚀研发项目，有望进一步提升公司竞争力，驱动公司半导体刻蚀设备持续高增长。

    　　投资建议

    　　调整此前盈利预测，我们预计 2021-2022 年公司营收分别从32.98 亿元、44.60 亿元调整为 30.85 亿元、41.28 亿元，归母净利分别从 4.31 亿元、5.82 亿元调整为 5.05 亿元、6.41 亿元，预计 2023 年营收和归母净利润分别为 53.10 亿元和 8.32亿元。2021-2023 年实现每股收益为 0.94 元/1.20 元/1.56元，对应现价 PE 分别为 126 倍、99 倍、76 倍，我们看好公司作为国内刻蚀设备龙头，随着国内半导体行业对上游设备需求的不断提升，公司收入和净利润有望实现持续增长，维持“买入”评级。

    　　风险提示

    　　新产品新技术研发低于预期、国产化替代进展低于预期、中美贸易摩擦加剧。