公司发布 2020 年报，全年营收 22.73 亿元，同比增长 16.8%，归母净利润4.92 亿元，同比增长 161.0%，其中扣非净利润 0.23 亿元，同比下滑 84.2%。

    　　净利润增长来自中芯国际科创板上市带来的 2.62 亿元公允价值变动损益和计入非经常性损益的政府补助 2.53 亿元，扣非净利润的下滑来自实施股权激励产生的股份支付费用 1.24 亿元，去年同期无此费用。

    　　根据此前发布的业绩快报，公司全年刻蚀设备收入 12.89 亿元，同比增长58.5%，MOVCD 设备收入 4.96 亿元，同比下滑 34.5%，刻蚀设备的营收占比再次提升。虽然 MOCVD 设备受到下游市场影响收入下滑拖累整体利润，但公司以刻蚀设备国产替代为核心的长期价值增长逻辑并未改变。

    　　等离子体刻蚀机是公司最核心的业务，其中电容耦合等离子体（CCP）刻蚀是公司率先研发的技术，产品已经进入 65-5nm 制程的多条逻辑产线，并且大量应用在 64 层及 128 层 3D NAND 产线。电感耦合等离子体（ICP）刻蚀是公司近年来涉足的技术，其与 CCP 刻蚀用于不同工序和介质，同样在晶圆厂广泛应用。根据年报披露信息，公司的 5nm ICP 刻蚀机已经实现在先进逻辑客户的销售，3nm ICP 刻蚀机也已初步完成 Alpha 原型机的开发，可见公司的技术能力已经达到世界先进水平。

    　　半导体设备制造是典型的研发驱动型行业，2020 年公司研发总投入 6.40亿元，同比增长 50.1%，其中费用化 5.63 亿元。公司的定增计划于 3 月上旬获得批复，将募集不超过 100 亿元资金，计划用于两个基地建设项目和储备资金。目前在全球范围内等离子刻蚀机依然以泛林半导体、应用材料和东京电子三家公司的产品为主，中微公司的产品数量和产能与这三家公司存在明显差距。随着技术追赶的实现，产能空间和研发资金储备可能成为公司发展的瓶颈，因此，定增项目的投建虽然可能在短期内影响公司的总资产收益率，但也同时打开了公司长期发展的空间。

    　　公司盈利预测及投资评级：我们预计公司 2021-2023 年归母净利润分别为4.91、6.22 和7.23 亿元，在考虑新增股份的情况下对应 EPS 分别为 0.80、1.01 和 1.18 元，对应当前股价的 PE 为 149、118 和 101 倍，维持“强烈推荐”评级。

    　　风险提示：下游客户扩产进度不及预期，新一代刻蚀机研发不及预期等