中微半导体设备技术实力持续强化，多维发展战略清晰公司年报：20 年营收 22.73 亿元，同比+16.76%，归母净利 4.92 亿元，同比+161.02%，高于我们预期（预期值 3.51 亿元），扣非后 0.23 亿元，同比-84.19%（受股份支付费用影响），半导体刻蚀设备销售高增长、公允价值变动收益大增（公司投资青岛聚源芯星 3 亿元而间接持有中芯国际科创板股票）是利润同比显著提升的主因。公司三维度布局规划：深耕集成电路关键设备领域、扩展在泛半导体关键设备领域应用、探索其他新兴领域的机会；其中 IC 设备领域公司考虑扩大刻蚀设备竞争优势，延伸到薄膜、检测等其他关键设备领域。预计 21-23 年 EPS 为 0.71、1.07、1.48 元，增持评级。

    　　半导体刻蚀设备收入高速增长，研发投入持续加大受益于中国大陆半导体扩产及公司份额提升，20 年刻蚀设备收入 12.89 亿元，同比+58.49%；MOCVD 设备收入 4.96 亿元，同比-34.47%。公司毛利率同比+2.74pct 至 37.67%，专用设备毛利率 37.32%，同比+3.41pct。研发投入达 6.4 亿元，同比+50.69%，占收入比重达 28.14%，同比+6.33pct。

    　　刻蚀设备技术迈向世界先进水平，紧密契合国内外主流晶圆厂前沿工艺主要产品进展：1）CCP：多款产品批量应用于国内外一线客户产线，在部分客户市占率已进入前三；先进逻辑 IC 方面成功取得 5nm 及以下产线重复订单，存储方面在 64 及 128 层 3D NAND 产线得到广泛应用，重复订单稳步增长，同时积极布局动态存储应用并开始工艺开发及验证；公司与主流客户积极合作，正开发更先进 CCP 产品。2）ICP：Primo nanova 在 10 家客户产线进行验证，已有超 50 个工艺达到客户产线指标要求，20 年开始逐步取得客户重复订单，下半年国内存储客户扩产带动销售取得较大进展。具有高输出率特点的双反应台 Primo Twin-Star 也已经在客户端完成认证。

    　　潜力深远的半导体设备国产化先锋，维持“增持”评级考虑到公司刻蚀设备技术及市场突破高速推进，多维发展路径明晰，我们上调 21、22 年盈利预测，预计 2021~23 年归母净利润为 3.8（前值 3.6）/5.7（前值 4.9）/7.9 亿元，PE 163/108/78 倍，PS 20/15/12 倍。科创板半导体设备可比公司 21 年 PE、PS 均值为 76、20 倍（Wind 一致预测），我们认为中微作为国内最为领先的半导体设备公司之一，其突出的技术及研发实力、海内外市场地位在本土稀缺度高，应有一定估值溢价，给予 21 年 PS21x，目标价 123.53 元。

    　　风险提示：半导体周期性波动；国内芯片技术突破、产业投资不及预期；公司技术突破慢于预期：海外疫情加剧；知识产权争议和海外技术封锁；股东减持引发股价波动的风险。