印复印通用耗材起家，光电半导体材料业务打造第二增长极公司以打印复印通用耗材业务起家，具有重研发的优质基因，在耗材领域多次打破国外产品垄断，并借助内生外延实现耗材全产业链布局。公司专注高端新材料进口替代，进军高端材料领域并不断丰富产品矩阵，CMP 耗材方面，抛光垫+抛光液+钻石碟+清洗液实现CMP 环节主要耗材全覆盖，面板材料方面，PI 浆料+OLED 显示制程用光刻胶PSPI+柔性显示面板封装材料INK 等多点布局，打造创新材料平台型企业。公司在打印复印通用耗材业务为国内行业龙头，开拓光电半导体材料业务并进行平台化布局，持续推进技术整合并积累行业Know-How，材料新星正冉冉升起。
CMP 抛光垫：晶圆制造关键材料，三大驱动助力公司行稳致远根据SEMI，2020 年全球半导体材料市场规模553 亿美元，预计2021年将达565 亿美元，同比增长4.82%，而中国大陆2020 年半导体材料市场规模97.63 亿美元，位居全球第二，同比增长高达12%，为全球增长最快的市场。供给端，供应链安全趋势下寡头垄断不可持续，内资有望开启国产替代浪潮；需求端，驱动一 晶圆厂扩产趋势显著，有望带动材料市场上行：据 SEMI，2017—2020 年全球新增半导体产线共计62 条，其中中国大陆有 26 条产线，占比高达42%，预计22—23 年新增产能将迎来释放，半导体材料需求将不断提升；驱动二 晶圆制造制程不断升级，带动CMP 用量提升：以代工龙头台积电为例，其2022年400 亿美金资本开支中，70-80%用于先进制程，制程的升级将导致抛光步骤和CMP 耗材用量增加；驱动三 新兴应用多点开花，带动CMP材料需求增长：消费电子方面，5G 手机渗透率不断提升，智能穿戴等AIOT 发展方兴未艾；元宇宙助力AR/VR 终端发展；汽车方面，电动化、智能化趋势显著，车轨半导体需求即将爆发。公司目前在国内抛光垫市场中居于领先地位，产品已经进入国内主流晶圆厂、成为部分厂商一供，随着公司新增产能逐步释放，未来业绩可期。
抛光液：新品通过客户验证，进入吨级采购阶段据TECHCET，2021 年全球晶圆制造用抛光液市场规模将从2020 年的16.6 亿美元增长至18 亿美元，增长率为8%，预计未来五年复合增长率为6%。2022 年3 月10 日公司公告称子公司武汉鼎泽的氧化铝抛光液产品在客户28nm 节点HKMG 工艺的Al CMP 制程验证通过，并已进入吨级采购阶段。新产品所使用的氧化铝研磨粒子和高分子聚合物是所有抛光液中技术最难的关键材料，公司此次突破技术难关，再次彰显其强大的材料自研能力，并进一步丰富公司产品矩阵，增厚公司业绩。
清洗液：制程升级清洗步骤大幅提升，产品验证与产能建设同步推进半导体制造的制程不断升级，需要平坦化的层数和平坦化的要求越来越高，先进封装及下一代逻辑和存储器件将加速清洗液市场的增长。以逻辑芯片制造工艺为例，5 纳米技术节点所要求的总工艺步骤数将由28 纳米技术节点的400 次左右增加到1200 次以上，其中清洗工艺步骤数占总工艺步骤数的25~30%，进一步带动清洗液等高端湿电子化学品的需求。公司产品验证与产能建设同步进行，已初步建成武汉本部一期年产2000 吨清洗液产线，子公司鼎泽新材已启动28~14nm 先进制程清洗液产品的研究，并前瞻布局针对特殊制程及薄膜材料开发相应CMP 配方清洗液，同时清洗液二期产能建设将在外地布局准备中，静待产能花开。
面板材料：柔性显示景气度不断提升，YPI 吨级出货PSPI+ INK 送样据Canalys，2021 年折叠屏智能手机的出货量达890 万部，同比增长148%，而整体智能手机市场仅增长7%，并预测2024 年全球折叠屏手机的年出货量将超 3000 万部，2021 年至2024 年的CAGR 为53%。
公司YPI 产品销售旺盛，持续取得吨级订单，新品PSPI、INK 已进入中试阶段，进入客户端测试。作为国内首家实现柔性OLED 显示基板材料PI 浆料量产和吨级销售的企业，公司持续推进新品研发和技术整合，积累行业Know-How，产品矩阵不断丰富，有望充分收益此轮柔性显示上行浪潮。
打印复印通用耗材：通用耗材整合效果显现，业绩稳健增长深耕打印复印通用耗材20 载，借助内生外延实现全产业链布局。公司以彩色碳粉的电荷调节剂起家，通过开展彩色聚合碳粉业务、耗材芯片和显影辊业务向产业链上游进军，布局硒鼓和再生墨盒补全产业链下游业务，实现产业链上下游联动，增强整体竞争力。我们认为随着公司逐步完成耗材业务全产业链布局，市占率将逐步提高，公司打印复印通用耗材市场份额有望进一步提升。
投资建议
我们预计 2021-2023 年公司归母净利润为 2.25、3.58、5.50 亿元，对应市盈率为87、55、36 倍，首次覆盖给予公司“买入”评级。
风险提示
产能建设不及预期、行业竞争加剧、外部环境对产业链带来扰动