艾为电子申请轨迹图像处理专利，提高形状记忆合金模组的产品质量

　　2024年4月5日消息，据国家知识产权局公告，上海艾为电子技术股份有限公司申请一项名为“轨迹图像处理方法、运放值校准方法、装置及控制系统“，公开号CN117830344A，申请日期为2022年9月。

　　专利摘要显示，本申请公开一种轨迹图像处理方法、运放值校准方法、装置及控制系统，该轨迹图像处理方法包括：获取形状记忆合金模组的镜头拍摄的亮斑图像；根据预设规则获取所述亮斑图像的图像信息，并根据所述图像信息确定所述镜头在移动过程中的位置。本申请能够对形状记忆合金模组的镜头进行定位，从而改进形状记忆合金模组的生产控制方式，提高形状记忆合金模组的产品质量。