东威科技申请镀膜装置及镀膜系统专利，提高膜面电镀均匀性

　　2024年3月29日消息，据国家知识产权局公告，昆山东威科技股份有限公司申请一项名为“镀膜装置及镀膜系统“，公开号CN117779155A，申请日期为2023年12月。

　　专利摘要显示，本发明涉及电镀技术领域，公开了镀膜装置及镀膜系统。其中镀膜装置包括镀槽和阳极组，多个镀槽依次间隔设置，适于沿多个镀槽的长度方向穿过卷膜，阳极组内设有多个阳极片，任意相邻两个阳极片之间形成分割区，每个镀槽内均设有多组阳极组，多组阳极组沿镀槽的长度方向依次间隔设置，至少部分镀槽内的阳极组错开分布设置，本发明通过将部分镀槽内的阳极组错开分布设置，使得阳极片分割区能够在膜宽方向上全区域分布，让每组阳极组内的阳极片分割区在膜面上形成不均匀电镀层带，在卷膜的膜宽方向错排，通过调节阳极组在镀槽内的偏移距离，使卷膜膜面上不均匀镀层区错排，且分割区在膜宽方向上均匀分布，使得卷膜膜宽方向上形成均匀的镀层，提高膜面电镀均匀性。