来源 :上证e互动2023-09-05
芯碁微装(688630)公司目前正在研发的光刻机中，最高能突破多少nm节点？
尊敬的投资者您好，在制版光刻机领域，目前主流制程在100-400nm工艺区间,公司将尽快推出量产90nm节点制版需求的光刻设备以满足半导体掩膜版技术的更新迭代，感谢关注！